[发明专利]镁合金的表面处理工艺

说明书

技术领域

本发明涉及金属表面处理技术领域，尤其涉及一种镁合金的表面处理工艺。

背景技术

由于镁合金具有密度低、散热性好和承受载何冲击能力强的优点，现在，作为零组件已普遍用于日常生活用品及电子产品等，特别是在手机、平板电脑等电子设备行业的运用相当广泛，但是由于现有工艺在对产品做外观处理时，往往采用阳极工艺，以使其表面可进行染色而提高装饰性，但镁合金因自身材质因素，颜色单一，不能进行不同颜色的染色工艺，不能满足装饰颜色的多样性，因此，现有的镁合金产品存在较大的使用局限性，大大限制了它的在电子产品行业的应用。

针对以上现状，发明人经反复的试验和论证，提出了镁合金表面阳极处理工艺，从而实现镁合金产品的表面阳极处理工艺。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种镁合金的表面处理工艺，利用本处理工艺对镁合金进行表面处理，具有工艺简单、处理成本低和着色效果好的优点。

为实现上述目的，本发明的一种镁合金的表面处理工艺，包括如下工艺步骤：

S1.将镁合金制品的表面进行抛光；

S2.对镁合金制品的表面进行喷砂，使镁合金制品的表面粗糙度为Ra0.5~Ra1.5；

S3.对镁合金制品进行清洗；

S4.将镁合金制品送至磁控溅射设备中进行沉积处理，使镁合金制品的表面沉积覆盖有铝层；

S5.取出镁合金制品并进行阳极氧化处理；

S6.将阳极氧化后的镁合金制品进行染色处理；

S7.表面处理完成。

进一步的，在S4的步骤中，先将磁控溅射设备进行加温至230~280度，加温时间为50~80分钟；然后将镁合金制品送至磁控溅射设备的沉积腔体中；进一步对沉积腔体抽真空，使沉积腔体内的真空度为15~20毫托；再充入氩气，通电进行磁控溅射，使镁合金制品的表面沉积覆盖有铝层，所述铝层厚度为30~60um。

作为优选，在S4的步骤中，先将磁控溅射设备进行加温至250度，加温时间为65分钟；然后将镁合金制品送至磁控溅射设备的沉积腔体中；进一步对沉积腔体抽真空，使沉积腔体内的真空度为17毫托；再充入氩气，通电进行磁控溅射，使镁合金制品的表面沉积覆盖有铝层，所述铝层厚度为45um。

进一步的，在S2的步骤中，镁合金制品的表面粗糙度为Ra0.5~Ra1.5。

优选的是，在S2的步骤中，镁合金制品的表面粗糙度为Ra0.8。

进一步的，在S2的步骤中，所述喷砂采用30目~60目的陶瓷砂、锆砂或金钢砂。

进一步的，在S3的步骤中，先使用清洗剂对镁合金进行第一次清洗，然后用水对镁合金进行第二次清洗。

作为优选，在进行第一次清洗时，所述清洗剂为水基清洗剂或白电油。

进一步的，在S5步骤完成后并在进行S6步骤之前，将镁合金制品置于冷水中进行第三次清洗。

进一步的，所述染色处理完成后将镁合金制品置于60~80度的热水中进行第四次清洗，然后取出镁合金制品烘干，所述烘干温度为60~80度，烘干时间为15~25分钟。

本发明的有益效果：与现有技术相比，本发明的一种镁合金的表面处理工艺，本处理工艺先将镁合金制品进行磁控溅射处理，使镁合金制品的表面形成一定厚度的铝层，然后再将镁合金制品进行阳极氧化处理，使铝层的表面形成氧化膜，最后将镁合金制品进行染色处理，染色即可较好的进入铝层的氧化膜中，从而达到镁合金的表面颜色处理目的，本处理工艺在前置处理过程中，采用磁控溅射属于物理气相沉积，具有环保的优点，且处理成本低，另外，这种处理工艺可以通过后续的染色工艺根据不同颜色需要进行不同染色，着色效果好。

附图说明

图1为本发明的工艺流程图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明进行详细的说明。

参见图1。

实施例一。

一种镁合金的表面处理工艺，包括如下工艺步骤：

S1.将镁合金制品的表面进行抛光；

S2.对镁合金制品的表面进行喷砂，使镁合金制品的表面粗糙度为Ra0.5；

S3.对镁合金制品进行清洗；

S4.在本步骤中，先将磁控溅射设备进行加温至230度，加温时间为50分钟；然后将镁合金制品送至磁控溅射设备的沉积腔体中；进一步对沉积腔体抽真空，使沉积腔体内的真空度为15毫托；再充入氩气，通电进行磁控溅射，使镁合金制品的表面沉积覆盖有铝层，所述铝层厚度为30um；

S5.取出镁合金制品并进行阳极氧化处理；