[发明专利]一种高稳定性的非偏振依赖表面增强拉曼散射衬底、制备及应用在审
申请号: | 201510776370.9 | 申请日: | 2015-11-11 |
公开(公告)号: | CN105442015A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 蒋毅坚;冯超;赵艳 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C25D11/04 | 分类号: | C25D11/04;C23C14/35;C23C28/00 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 张慧 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 稳定性 偏振 依赖 表面 增强 散射 衬底 制备 应用 | ||
技术领域
本发明涉及一种高稳定性的非偏振依赖表面增强拉曼散射衬底、制备技术及应用,其制备技术属于材料物理化学领域,其应用范畴属于光散射科学和表面等离子体科学领域。
技术背景
表面增强拉曼散射(SERS)效应是一种至少可以将分子光散射信号放大上百万倍的高灵度痕量分析和探测技术,其极限探测能力甚至可以实现单分子的检测和识别,具有极大的科学研究意义、广发的实际应用前景和潜在的高额商业价值。其机理是源自于贵金属纳米结构在受到外界电磁波激发时产生的极强的局域表面等离子体震荡。局域表面等离子体震荡效应的强弱和空间分布极大依赖于贵金属纳米结构的几何形貌。因此,可以通过控制贵金属纳米结构的形貌来有效的对局域表面等离子震荡进行调制,进而制备出能够满足实际生产和生活应用需求的具有特殊性能的可靠的表面增强拉曼散射激发衬底。
现今,人们利用化学还原技术和物理刻蚀技术可以有效制备出多种形貌的贵金属纳米结构,广泛的包括纳米球、纳米棒、纳米线、纳米片、纳米三角板、纳米星等众多形貌,并将其用作表面增强拉曼散射衬底,获得了各具特色的表面增强拉曼散射效果。然而这些现存的贵金属纳米结构在作为表面增强拉曼散射衬底时都存在一个共同的缺陷,即它们的局域表面等离子体震荡强度都极大的受到激发电磁波的电场偏振方向的影响。
被用作表面增强拉曼散射效应激发的电磁波通常是线偏振光的激光,即这些电磁波具有单一的电场偏振方向。而现今被用作表面增强拉曼散射衬底的各种贵金属纳米结构,都存在一个自身独特的最佳局域表面等离子体震荡激发方向。当外界电磁波的电场偏振方向沿着作为衬底的贵金属纳米结构的最佳局域表面等离子体震荡激发方向时,就可以检测到极强的表面增强拉曼散射信号。但若激发电磁波的电场偏振方向不沿作为衬底的贵金属纳米结构的最佳局域表面等离子体震荡激发方向时,检测到的表面增强拉曼散射信号就会减弱。并且,电场偏振方向与最佳局域表面等离子体震荡激发方向偏差越大,检测到的表面增强拉曼散射信号就会越弱。当偏振方向与最佳激发方向偏差过大时,贵金属纳米结构甚至无法激发出足以被检测到的表面增强拉曼散射信号。这一普遍存在的巨大缺陷使得现今的表面增强拉曼衬底的信号输出具有极大不确定性、不可靠性和低重现性。尤其是在实验室以外的实际生产和生活检测现场,根本无法对纳米尺度结构的最佳局域表面等离子体震荡激发方向进行辨认,更无从谈及将激发光的电场偏振方向与纳米结构的最佳激发方向进行匹配。因此,由于现存的贵金属纳米结构的偏振依赖的光学特性所导致的,作为衬底激发出的表面增强拉曼散射信号具有极大的不确定性、不可靠性和低重现性的致命缺陷,致使表面增强拉曼散射技术至今一直无法在实际生产和生活中得到广泛应用。
基于以上原因,如果能通过控制贵金属纳米材料的形貌,制备出一种被激发时SERS信号强度不受激发电磁波电场偏振方向影响的非偏振依赖的贵金属纳米结构,将会大大提高表面增强拉曼散射信号在检测中的可靠性和重现性,从而让表面增强拉曼散射技术真正服务于实际生产和生活,这具有极大的科学意义,并将带来高额的商业价值。
发明内容
本发明的目的是通过对金纳米粒子排布方式的控制来实现对于SERS信号杂化效果的有效控制,从而制备出一种不受激发光电场偏振方向影响的,能够满足实际生产和生活应用需求的,高稳定性的非偏振依赖表面增强拉曼散射衬底。
一种高稳定性的非偏振依赖表面增强拉曼散射衬底,其特征在于,衬底表面为金纳米粒子周期阵列排布,且任意每三个彼此相邻的金纳米粒子都能够组成一个等边三角形三聚体,从而形成纳米粒子等边三角形三聚体周期性阵列。
上述高稳定性的非偏振依赖表面增强拉曼散射衬底的制备方法,通过以下技术工艺实现:
步骤(1):基底预处理
首先将光滑平整、表面无明显损伤的高纯铝片进行退火处理,再将退火后的高纯铝片浸入丙酮溶液中超声清洗,将清洗后干燥的高纯铝片浸入由高氯酸和乙醇混合而成的抛光液中在直流稳恒电压下对铝片表面进行电化学抛光。
进一步,选用纯度不低于99.999%(厚度在0.1mm-0.5mm之间)的高纯铝片作为基底。首先将光滑平整、表面无明显损伤的高纯铝片在300℃-500℃的温度区间内进行至少6小时的退火处理。再将退火后的高纯铝片浸入丙酮溶液中超声清洗至少5分钟。将清洗后干燥的高纯铝片作为阳极,铂片作为阴极,一同浸入由高氯酸和乙醇混合而成的抛光液中在16V-20V的点压区间内以直流稳恒电压对铝片表面进行2-3分钟的电化学抛光,高氯酸和乙醇的体积比区间为高氯酸:乙醇=1:4至1:5。
步骤(2):阳极氧化处理
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