[发明专利]一种适用于砒砂岩小流域的抗蚀促生二元立体配置模式

说明书

技术领域：

本方法涉及一种适用于砒砂岩小流域的抗蚀促生二元立体配置模式，属于干旱及沙化地区生态修复技术领域。

背景技术：

砒砂岩属于黄土高原地区一种特殊的地貌结构，红白相间，主要分布在晋陕蒙接壤区为中心的区域。由于地表裸露，加上水蚀、风蚀及重力侵蚀相互作用，造成了当地极为严重的水土流失，成为黄河中游粗砂的主要来源。砒砂岩无水时坚硬如同岩石，遇水则极短时间内松软成泥，同时风蚀严重。因为该地区地形破碎，气候干燥，年降雨量小于400mm，地表土壤保水性差，植被稀少，生态系统极为脆弱。而且当地暴雨集中，砒砂岩不耐水蚀，往往在雨季造成砒砂岩水土的大面积流失。

目前，砒砂岩区的水土治理措施主要是封山自然修复和人工种植林地，多集中在梁卯坡和塬上，针对沟坡、沟道内的治理方法较少。然而，砒砂岩由梁卯顶—沟坡—沟道构成的整个系统中，地表径流、溯源侵蚀、泥沙输移造成的侵蚀密不可分。因此仅用上述养护治理方法不能很好地解决生态系统脆弱，大面积水土流失问题。且坡面上裸露严重，受风蚀、水蚀、重力侵蚀等，往往存在大面积的砒砂岩坍落，尚无很好的高效低价的治理办法；而沟道内为雨水汇集处，水流往往携带大量泥沙流走，而无法形成有效拦截，造成水土流失。针对砒砂岩区水土治理的工程措施，目前主要是淤地坝的建设，然而施工条件困难，且淤地坝建成后使用年限较短，效果不佳。

目前对于砒砂岩区的治理措施，单一且呈区域性分布，没有有效的发挥生物措施和工程措施的最大作用，治理效率较低。

发明内容

为了更有效地防治砒砂岩区水土流失，本发明人针对砒砂岩区典型地貌结构-坡面和沟道的地形地貌分异特征，把砒砂岩水土保持材料和砒砂岩抗蚀促生工程与现有的砒砂岩生物治理措施有机结合，实现了从坡顶-坡面-沟道系统的整体综合治理。

本发明的目的是提供一种适用于砒砂岩小流域的抗蚀促生二元立体配置模式。

本发明的目的通过以下技术方案实现，包括步骤：

1)各区域植被的搭配

在沟道内采用乔木×灌木或乔木×根茎型草本植物的搭配种植；

在坡度<30°的平缓坡顶，选择乔木×灌木、乔木混交林与纯林或灌木混交林与纯林的搭配种植；在沟沿和截流沟之间撒播草种子，在截流沟远离沟沿一侧密植一行或多行灌木，形成柔性坝；在距离沟沿0.5m处栽种一行藤蔓状草本植物；

在坡度大于70°的坡面不进行植物的人工种植；在35°～70°的坡面采用灌木×草本植物的搭配种植；其中：45°～70°坡面采用灌木×藤蔓状草本植物搭配种植；35°～45°坡面采用灌木×半灌木、灌木×根茎型草本植物或灌木×藤蔓状草本植物搭配种植；35°以下坡面采用灌木×草本植物搭配种植。

2)在坡顶建立截流沟和地窖

在距离沟沿1～2m处挖截流沟(A3)，截流沟宽为0.3～1m，深为0.5～1m；

在距离沟沿5～10m处挖地窖(A4)，地窖为口小肚大，深为1～2m，每30～50m设置一个。

在截流沟和地窖的表面均喷洒高浓度防渗透固化剂进行防渗处理。

3)植被种植的方式

角度平缓的坡顶：采用机械挖坑，穴状整地，品字栽种，株行距1～3m×1～5m；

沟沿和截流沟之间采用撒播种植；沟沿处的藤蔓状植被，采用株穴状栽种，间距0.5m；

45°～70°的坡面采用穴状品字方式栽种幼苗，灌木株行距0.5～1.5m×0.5～1.5m，藤蔓状植被间中在灌木间，株行距0.5～1m×0.5～1.5m；

35°～45°的坡面采用穴状品字方式栽种幼苗，灌木株行距0.5～1.5m×0.5～1.5m，半灌木间中在灌木间，株行距0.5～1m×0.5～1m，搭配草本植物撒播，密度2～5g/m²；

35°以下坡面采用条状密植灌木，行距1m～2m，搭配草本植物种子撒播；沟道两侧的沟岸上及与坡面接壤处采用栽种1～2行乔木，株行距2～5m×2～5m，在乔木株行距密植1～2行灌木，株行距0.1～0.5m×1～2m；在沟道内采用条状密植灌木，行距1～5m，行间撒播草种子。

4)喷施W-OH系列高分子固化材料