[发明专利]光刻投影物镜热效应评估方法

权利要求书

1.光刻投影物镜热效应评估方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、光刻投影物镜温度分布的计算

根据光刻投影物镜的曝光工况、热仿真边界条件以及光刻投影物镜材料属性，采用有限元方法或有限体积法进行热仿真，输出光刻投影物镜中每片透镜上的各个网格节点的空间坐标以及各个网格节点的温度值；

步骤二、光刻投影物镜光学系统的光线追迹

根据光刻投影物镜光学系统的参数，对各个视场点进行光线追迹；获取每条追迹光线在每片透镜入射表面和出射表面的空间坐标以及在出射光瞳上的空间坐标，同时计算出每条追迹光线与理想波面之间的光程差，得到原始光学系统每条追迹光线的光程差；

步骤三、透镜折射率变化引入光程差的计算

根据步骤二获得的每条追迹光线的实际传播路径，结合步骤一获得的光刻投影物镜中每片透镜的温度分布，采用数值积分方法计算得到每条追迹光线由透镜折射率变化引入的光程差；

步骤四、光刻投影物镜热效应像质评估

将步骤三获得的每条追迹光线由透镜折射率变化引入的光程差叠加到步骤二获得的原始光学系统相对应的追迹光线的光程差中，计算光刻投影物镜光学系统的波像差和畸变，获得光刻投影物镜热效应下的像质变化。

2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜热效应评估方法，其特征在于，步骤一中，采用热分析软件对光刻投影物镜的温度分布进行计算，所述热分析软件为NX/ThermalFlow、Ansys或Nastran。

3.根据权利要求1所述的光刻投影物镜热效应评估方法，其特征在于，步骤二中，每个视场点的追迹光线都能均匀充满入射光瞳，追迹光线的条数满足在出射光瞳对波像差进行Zernike拟合时的采样点需求。

4.根据权利要求1所述的光刻投影物镜热效应评估方法，其特征在于，步骤三中，每条追迹光线由透镜折射率变化引入的光程差通过式(1)和式(2)计算得到：

OPD=Σi=1N-1ΔniΔli---(1)]]>

Δni=dndTΔTi---(2)]]>

式中：Δn_i为积分路径离散化后第i个离散点折射率的变化量，N-1为积分路径上离散点的数量，Δl_i为第i个离散点对应的积分路径长度，ΔT_i为数值积分点的温度与光刻投影物镜工作温度的温差，dn/dT为透镜材料折射率随温度变化的系数。

5.根据权利要求4所述的光刻投影物镜热效应评估方法，其特征在于，步骤三中，所述数值积分点的温度通过其周围网格节点的温度插值计算得到，所述数值积分点分布于透镜内部。