[发明专利]一种研磨抛光处理设备及方法

说明书

技术领域

本发明涉及研磨或抛光用设备领域，具体涉及一种对面板尤其是3D面板进行研磨抛光的设备。

背景技术

现有技术中，数码产品的WINDOWS、显示屏、触摸屏等面板，例如玻璃面板，在传统的研磨抛光中，均使用平磨机、扫磨机、抛光机对其进行机械打磨。这些机器都是在加入磨粉磨液的条件下，磨具或磨刷直接与面板接触，二者间产生摩擦力而对其进行研磨抛光。

这些机器对传统的2D面板进行平磨和抛光均是适宜的，但是对于含曲面、凹面、凸面、弧形或流线型等新型结构的3D面板就不再适用，达不到产出良品的效果。此外，磨具磨刷长期直接接触面板产生摩擦，其机械转动使得这样的设备需要长期检修和维护，如更换磨具、磨盘、磨刷、磨液和磨粉，因此而不可避免地需要付出大量的人力物力。

如发明专利申请201410478674.2中公开了一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫及其制备方法，该研磨垫由下至上依次为双面附胶的PC板层、PET膜层、无纺布层、磨体坯块层；制备方法是将环氧树脂、金刚石、滑石粉、硅灰石、铝粉、石墨和碳化硅原料先通过模具浇铸成型制备磨体坯块坯体，粘贴无纺布、PET膜，采用热压法固化成型，冷却脱模，粘贴PC板，模切成型即得；该制备方法操作简单、成本低、效率高，制得的研磨垫研磨性能稳定、研磨效率高，使用寿命长，用于光学玻璃精加工可获得良好的表面质量，且产品良率高，大大降低了光学玻璃加工成本。

而实用新型专利201520177093.5公开了一种圆形玻璃直身位大斜边抛光装置，包括抛光部件和玻璃固定部件；所述抛光部件具有一个连接转动驱动部件的抛光底座，其上设有一个与转动轴同轴的凹槽用于固定铺垫磨皮；所述玻璃固定部件具有一个真空底座，用于真空吸附圆形玻璃，所述真空底座通过万向连接构件可升降设置在抛光底座上方，并与一个在水平面往复移动的支撑杆连接。该实用新型可以实现圆形玻璃直身位大斜边的一次性抛光，减少生产工艺，抛光效果优，提高生产效率和产品良率，降低成本，并且结构简单，方便拆装，能进行快速生产，操作方便。

上述方案中均为使用机械摩擦接触的方法对面板进行研磨和抛光，因而无法解决3D玻璃的研磨抛光精度问题以及研磨抛光设备维护保养困难的问题。

发明内容

因此，本领域需要一种研磨抛光更全面和精准，更先进和智能化的研磨抛光设备。

本发明提供一种研磨抛光处理设备，包括上端设置有便于待处理物品取放之开口的液体容器、设置在容器器壁上的电磁铁、与电磁铁连接且用于对其供电的直流电源、用于使所述物品在处理过程中位置固定的夹具、以及设置在容器内盛装的液体中的磁性固体颗粒。

在一种具体的实施方式中，容器器壁上设置的电磁铁的总数量为4～100块，且每块电磁铁可分别受控。

在一种具体的实施方式中，所述设备还包含控制器，所述控制器用于控制每一块电磁铁的启闭、线圈中电流的大小以及直流电的极性方向。

在一种具体的实施方式中，所述设备还包括设置在夹具顶端的盖板和用于使得盖板和夹具携带物品升降的气缸。

在一种具体的实施方式中，所述容器和夹具的材质均为无磁性的高分子材料。

在一种具体的实施方式中，所述设备还包括设置在容器中的混合液，所述混合液包括磁流体和玻璃腐蚀液，且磁流体和玻璃腐蚀液的重量比为1：2～5；所述磁流体包括磁性固体颗粒、基载液以及界面活性剂，所述玻璃腐蚀液中包含氢氟酸和水。

在一种具体的实施方式中，所述容器的形状为长方体或正方体，且在容器的四侧壁上各设置2～15块电磁铁。优选地，每块电磁铁的长度方向均在竖直方向。

在一种具体的实施方式中，所述待处理物品为玻璃面板、蓝宝石面板和陶瓷面板中的一种或多种，优选为3D玻璃面板。

在一种具体的实施方式中，电磁铁设置为不会与容器中的液体直接接触。

本发明还提供一种研磨抛光处理方法，包括使用如上所述设备处理3D面板，且所述3D面板浸入容器内溶液中的研磨抛光时间为10～120min。

本发明提供的设备可以通过控制电流的大小、直流电压的正负极性、磁力线的发射角度来研磨抛光不同曲面、不同形状的面板。使用本发明提供的设备可同时解决3D面板研磨抛光的精度问题，以及解决研磨抛光的机械设备的维护保养需要耗费大量人力财力的问题。

附图说明

图1为本发明中提供的研磨抛光处理设备的整体结构示意图，

图2为一种具体实施方式中的容器器壁与电磁铁的位置关系示意图，