[发明专利]蓝莓幼苗所用的培养基质及其制作方法在审
| 申请号: | 201510748136.5 | 申请日: | 2015-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN105230392A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
| 发明(设计)人: | 李青峰;李罗生;童爱明 | 申请(专利权)人: | 长沙智博生物科技有限公司 |
| 主分类号: | A01G9/10 | 分类号: | A01G9/10 |
| 代理公司: | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人: | 杨忠孝 |
| 地址: | 410000 湖南省长沙市高新开*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 蓝莓 幼苗 所用 培养 基质 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及果树栽培技术领域,尤其涉及一种蓝莓幼苗所用的培养基质及其制作方法。
背景技术
蓝莓(SemenTrigonellae)是杜鹃花科(Ericaceae)、越橘属(Vacciniumspp.)多年生灌木小浆果,具有防止脑神经老化、强心、抗癌、软化血管、增强免疫力和缓解视疲劳等功效,被誉为‘超级水果’。
我国对蓝莓的研究始于上世纪80年代,主要以我国野生蓝莓资源开发利用为重点,开展资源调查、繁殖、加工及功效等的研究。90年代后,辽宁、山东、浙江、贵州等地开始引进国外商业品种进行示范种植,并进行组培和扦插繁殖技术研究与应用。近几年蓝莓规模化种植迅速发展,全国从北到南的种植区域和数量快速增加,对种苗的需求量也迅猛增加。但采用扦插繁殖中需要大量插条,对母株及产量影响大,而且繁殖效率低、根系发育不良、植株退化快,在规模化生产中应用越来越少。
在生产中,一般选用2~3年生的苗木,这样的苗木成活率较高。苗木的高度一般在30cm以上,但因品种而异。判断苗木优劣的指标不仅仅是高度,更取决于根系和枝条的粗壮程度。优质苗木的根系发达,钵苗的根系基本长满钵内,而且地上枝条粗壮发达,有基生枝出现。
蓝莓适应性强,喜酸性土壤,一般要求土壤pH值为4.5-5.3;土壤应松软,有机质含量一般为8%-12%,喜湿润,抗旱性差。蓝莓育苗技术可采用根蘖繁殖、根条繁殖、扦插繁殖和组织培养繁殖。扦插繁殖是蓝莓育苗的主要方法,分为硬枝扦插和绿枝扦插。
目前蓝莓主要采用两种栽培方法:第一种是用无土基质栽培,蘑菇菌渣与珍珠岩(1:1);第二种是土壤栽培,首先将土壤改良,因为蓝莓喜欢酸性土壤,可施用硫磺粉和酸性草炭,且施用作物秸秆、稻壳、麦壳、树叶等增加土壤有机质。
以上第一种方法的PH偏高,需要经常调节,第二种方法见效太慢,上述两种方法不仅对生产带来不便,以及稳定性差,导致生产成本高,而且容易导致蓝莓幼苗成活率低下。因此,有必要研究一种高效持久标准的方法和配方成为蓝莓生产亟待解决的问题。
发明内容
本发明正是基于以上一个或多个问题,提供一种蓝莓幼苗所用的培养基质及其制作方法,用以解决现有技术中的蓝莓幼苗生产工艺复杂,稳定性差,成本高以及蓝莓幼苗成活率低下的问题。
本发明提供一种蓝莓幼苗所用的培养基质,其中,所述培养基质包括:土壤,酸性基质及煤灰,按体积份数比计算,即土壤:酸性基质:煤灰为0.5~2:0.5~2:0.5~2.5,其中,每立方米所述培养基质中还含有3个碳原子以上的有机酸0.1L~10L,且所述有机酸的浓度为0.05%~2%。
较佳地,按体积份数比计算,即土壤:酸性基质:煤灰为1:1:1。
较佳地,所述每立方米所述培养基质中含有4~6个碳原子的有机酸。
较佳地,所述有机酸为丙酸或丁酸。
较佳地,所述土壤为红黄壤或珍珠岩,所述酸性基质为松鳞或菇渣或草炭,所述煤灰为煤球灰。
较佳地,所述红黄壤为砂质红黄壤,PH值为3~5。
较佳地,所述珍珠岩为经1600℃以上高温膨胀处理,并冷却后的珍珠岩,所述珍珠岩的PH值为6~7。
本发明还提供一种蓝莓幼苗所用的培养基质的制作方法,其中,所述制作方法包括以下步骤:
步骤一,提供土壤、酸性基质及煤灰;
步骤二,将所述土壤、所述酸性基质及煤灰按照预定范围内的体积份数比进行混合构成培养基质,所述预定范围内的体积份数比,即土壤:酸性基质:煤灰为0.5~2:0.5~2:0.5~2.5;
步骤三,在混合后的每立方米所述培养基质中均匀添加含有3个碳原子以上的有机酸0.1L~10L,且所述有机酸的浓度为0.05%~2%。
较佳地,所述预定范围内的体积份数比,即土壤:酸性基质:煤灰为1:1:1。
较佳地,所述土壤为红黄壤或珍珠岩,所述酸性基质为松鳞或菇渣或草炭,所述煤灰为煤球灰。
本发明的蓝莓幼苗所用的培养基质及其制作方法,具有生产工艺简单,稳定性好,成本低廉以及蓝莓幼苗成活率高的有益效果。
具体实施方式
下面实施例对本发明进行详细说明。需要说明的是,如果不冲突,本发明实施例以及实施例中的各个特征可以相互结合,均在本发明的保护范围之内。
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