[发明专利]具有梯度折射率效应的二次电光晶体及其制备与应用方法有效

专利信息
申请号: 201510734429.8 申请日: 2015-11-02
公开(公告)号: CN105220232B 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 王旭平;刘冰;杨玉国;吕宪顺;张园园;魏磊;王继扬 申请(专利权)人: 山东省科学院新材料研究所
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B15/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 曹丽
地址: 250014 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 梯度折射率 电光晶体 点群 制备 激光强度调制 晶体生长方向 非均匀分布 钙钛矿结构 掺杂离子 传播方向 电光效应 功能复合 离子掺杂 浓度分布 线性变化 立方相 四方相 基质 调制 应用 激光
【权利要求书】:

1.一种具有梯度折射率效应的二次电光晶体材料,其特征是:

(1)具有通式M:KTa1-xNbxO3的离子掺杂型电光晶体,具有钙钛矿结构,其中M=Fe3+,Ni2+,Na+,Li+其中一种离子单掺、或M=Cu2+,Fe3+,Sn4+,Ni2+,Ti4+,Na+,Li+两种双掺、或三种以上组合多掺;

(2)上述具有通式M:KTa1-xNbxO3的晶体,其基质组分Ta/Nb在晶体中呈近均匀分布,掺杂离子M在晶体内部呈非均匀分布,浓度分布沿某晶体生长方向呈线性变化,掺杂离子浓度梯度变化范围为0.3~2at%/cm;

(3)上述具有通式M:KTa1-xNbxO3的晶体,晶体内部折射率呈线性变化,其变化范围为32×10-3-50×10-3/mm。

2.如权利要求1所述的二次电光晶体材料,其特征是:二次电光晶体材料制备方法:根据晶体梯度折射率方向,结合晶体生长方向、结晶学方向,根据激光调制要求,制备M:KTa1-xNbxO3晶体电光调制器件。

3.如权利要求2所述的二次电光晶体材料,其特征是:在同一块晶体样品不同方向上通光,分别实现激光传播方向调制和激光强度调制,具体步骤如下:

(1)将晶体按照不同切向加工成长方体块,六面抛光;矩形电极端面边长的尺寸范围为1~50mm,晶体厚度0.5~25mm;

(2)样品梯度折射率方向垂直于电场方向,且平行于样品表面;

(3)沿垂直于电场且垂直于梯度折射率方向进行激光偏转调制,激光偏振方向平行于电场方向,光束偏转方向垂直于电场方向且平行于梯度折射率方向;

(4)沿垂直于电场且平行于梯度折射率方向进行激光强度调制,强度调制激光偏振方向与电场方向呈45°;

(5)M:KTa1-xNbxO3晶体调制样品温度控制采用TEC半导体控温模块,实施温度控制在样品居里点以上2~5℃。

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