[发明专利]多通道测序反应小室及多通道测序反应装置有效

专利信息
申请号: 201510733672.8 申请日: 2015-11-03
公开(公告)号: CN106635772B 公开(公告)日: 2019-07-02
发明(设计)人: 盛司潼;冯传发 申请(专利权)人: 盛司潼
主分类号: C12M1/34 分类号: C12M1/34;C12M1/00
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 张海英
地址: 518057 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 测序反应 多通道 玻片 小室 缓冲区 反应通道 连通 测序设备 多次重复 试剂出口 试剂入口 反应腔 中空的 贴合 清洗 生化 容纳
【权利要求书】:

1.一种多通道测序反应小室,其特征在于:包括相贴合的第一玻片和第二玻片,所述第一玻片用于与第二玻片形成多条中空的反应通道,所述反应通道的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区,所述第一玻片或第二玻片上设置有与试剂缓冲区连通的试剂入口,所述第一玻片或第二玻片上还设置有与试剂缓冲区连通的试剂出口;

其中,所述试剂缓冲区呈半圆形,试剂缓冲区具有圆弧边与直线边,且所述缓冲区的直线边位于靠近所述反应通道的一侧。

2.根据权利要求1所述的多通道测序反应小室,其特征在于:所述第一玻片位于第二玻片上方,所述反应通道和试剂缓冲区均设置在第一玻片的下表面,所述试剂入口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔,所述试剂出口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

3.根据权利要求1所述的多通道测序反应小室,其特征在于:所述第一玻片位于第二玻片上方,所述反应通道和试剂缓冲区均设置在第二玻片的上表面,所述试剂入口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔,所述试剂出口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

4.根据权利要求1所述的多通道测序反应小室,其特征在于:所述第一玻片由盖玻片和导液片紧密贴合而成,所述第二玻片为载玻片,所述导液片位于盖玻片与载玻片之间,所述导液片上设置有长条形的通孔,所述反应通道由盖玻片、长条形的通孔以及载玻片围合而成;或者

所述第一玻片为盖玻片,所述第二玻片由导液片和载玻片紧密贴合而成,所述导液片上设置有长条形的通孔,所述反应通道由盖玻片、长条形的通孔以及载玻片围合而成。

5.根据权利要求4所述的多通道测序反应小室,其特征在于:所述试剂缓冲区为设置在导液片上的通孔或为设置在盖玻片上的通孔。

6.一种具有权利要求1所述的多通道测序反应小室的多通道测序反应装置,其特征在于:它由多通道测序反应小室、小室上部组件以及小室下部组件构成,其中:

所述小室上部组件包括进液通道和出液通道;

所述小室下部组件包括小室上盖和小室底座,所述小室底座用于放置所述的多通道测序反应小室,所述小室上盖安装在小室底座上;

所述小室上部组件用于安装在小室下部组件上,且所述小室上部组件的进液通道与所述多通道测序反应小室的试剂入口连通,所述小室上部组件的出液通道与所述多通道测序反应小室的试剂出口连通。

7.根据权利要求6所述的多通道测序反应装置,其特征在于:所述小室上部组件还包括底板、隔热板、制冷片、导热板以及温度传感器;其中

所述隔热板固定在底板的下方,所述隔热板的中部具有通孔,所述制冷片设置于隔热板的通孔内,且所述制冷片的上表面与底板的下表面相接触;

所述导热板固定在制冷片的下方,导热板的上表面与制冷片的下表面相接触,当小室上部组件安装在小室下部组件上时,所述导热板的下表面与多通道测序反应小室相接触;

所述温度传感器用于检测所述的多通道测序反应小室的温度;

所述进液通道和出液通道分别为贯穿于所述底板、隔热板和导热板的通孔。

8.根据权利要求7所述的多通道测序反应装置,其特征在于:所述小室上盖的中部具有通孔,所述小室上部组件安装在小室下部组件上时,所述小室上部组件的隔热板和导热板伸入小室上盖的通孔内,所述导热板紧贴于多通道测序反应小室上,且所述进液通道与多通道测序反应小室的试剂入口连通,所述出液通道与多通道测序反应小室的试剂出口连通。

9.根据权利要求7所述的多通道测序反应装置,其特征在于:所述小室上部组件还包括顶板和散热板,所述顶板设置在底板上方,所述散热板位于顶板与底板之间并固定于所述底板上,所述散热板具有若干个散热鳍片。

10.根据权利要求7所述的多通道测序反应装置,其特征在于:所述底板和隔热板通过螺钉连接,所述螺钉中间设置有钢管,该钢管即为进液通道和出液通道。

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