[发明专利]一种基于双目合成孔径聚焦图像的目标测距方法、装置有效

专利信息
申请号: 201510732130.9 申请日: 2015-11-02
公开(公告)号: CN105258673A 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 陈广东;陈智;黄海行 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: G01C3/32 分类号: G01C3/32
代理公司: 江苏永衡昭辉律师事务所 32250 代理人: 杨楠
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 双目 合成 孔径 聚焦 图像 目标 测距 方法 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种测距方法,尤其涉及一种基于双目合成孔径聚焦图像的目标测距方法、装置。

背景技术

测量目标距离的方法有多种,如基于激光脉冲时间差的点测距法、基于幅度调制波相位差的深度获取、几何光学聚焦法、Moire拓扑技术、全息干涉测量法、Fresnel衍射技术和结构光法等。超声也常用来获取深度信息。计算机立体视觉技术近年来在许多领域得到广泛应用。基本方法是从两个或多个视点去观察同一场景,获得在不同视角下的一组图像,获得不同图像中对应像素间的视差,然后通过三角计算测量出场景中目标的深度信息,它需要确定双目或多目图像中的对应点,这是一个很困难的问题。当空间三维场景被投影为二维图像时一些有用信息由于投影而丢失了,同一景物在不同视点下的图像中会有很大的不同,受遮挡或阴影的影响,景物的若干点有可能不出现在所有图像中,而且场景中的诸多变化因素,如光照条件、噪声干扰、景物几何形状的畸变、表面物理特性以及摄像机特性等,都被综合到单一的图像灰度值中,要仅由这一灰度值确定以上诸多因素是十分困难的,至今这个问题还没有得到很好的解决。增大基线长度可以改善深度测量精度,但同时会增大图像间的差异,增加匹配的困难程度。多机位小孔成像可合成为大孔径图像,与单镜头成像一致。日本有文献[Kusumoto,N.;Hiura,S.;Sato,K.UncalibratedSyntheticApertureforDefocusControlIEEEConferenceonComputerVisionandPatternRecognition,2009.CVPR2009.P:2252-2259]研究了利用合成孔径方法对针孔成像照片进行艺术加工,使之产生非主体散焦效果,以突出视觉重点。单目聚/散焦测距法发展较为成熟,根据合成孔径原理使用多个摄像机可获得单目大孔径效应,因此可借鉴单目成像丰富的聚/散焦测距算法,使得合成孔径成像测距拥有较高的发展基础。由于符合针孔成像特点的数码设备造价很低,成像结果便于数字化处理,合成孔径成像的发展前景广阔。

一篇中国发明专利(CN103033166B)公开了一种基于合成孔径聚焦图像的目标测距方法,该方法包括以下步骤:步骤1、利用小孔成像模型摄像机获取与目标视线垂直的等间隔线阵机位图像序列,线阵与目标视线交点处机位的图像作为基准图像;步骤2、将可测距离范围分成多个距离段,对于每一个距离段,先分别计算出所述图像序列中各幅图像与基准图像之间的像差,然后将图像序列中各幅图像进行像差校正后进行叠加,得到该距离段所对应的像差校正叠加图像;每一个距离段对应一幅像差校正叠加图像;

步骤3、计算基准图像中每个像素的邻域与每一幅像差校正叠加图像中相应区域的相似度,并选取相似度随像差校正叠加图像变化的范围大于一预设阈值的像素作为可测距像素;步骤4、对于基准图像中的每一个可测距像素,选出相应区域与该可测距像素的邻域的相似度最大的像差校正叠加图像,该像差校正叠加图像所对应的距离段即为该可测距像素对应目标点所处的距离段。该方法利用利用合成孔径聚焦成像的原理进行目标测距,具有实现成本低、抗干扰能力强、算法简单等优点。然而,获得精确的合成孔径聚焦像是困难的,尤其是大孔径,移动拍摄图像序列的聚焦更难;散焦像斑块的干扰也不容忽视;此外,合成孔径叠加像具有超分辨率重建潜力,而现有单目测距对此潜力难以利用。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术不足,提供一种基于双目合成孔径聚焦图像的目标测距方法,可有效抑制共模误差和散焦像干扰,改善合成孔径聚焦图像测距的性能。

本发明具体采用以下技术方案解决上述技术问题:

一种基于双目合成孔径聚焦图像的目标测距方法,包括以下步骤:

步骤1、从两个结构相同的面阵处,以所述两个面阵的对称中心作为基准机位,对目标所在场景分别进行光学合成孔径成像,分别得到一组对应不同聚焦距离的合成孔径图像;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京航空航天大学,未经南京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510732130.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top