[发明专利]一种可防二次溅射污染的光学蒸发镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201510722556.6 申请日: 2015-10-31
公开(公告)号: CN105200374B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 刘双良 申请(专利权)人: 华有光电(东莞)有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 二次 溅射 污染 光学 蒸发 镀膜 设备
【说明书】:

发明涉及一种光学蒸发镀膜设备,尤指一种可防二次溅射污染的光学蒸发镀膜设备,主要包括镀膜炉腔、镀膜装置和防溅射装置;镀膜装置主要由电子束蒸发装置、离子装置、镀膜原料和镀膜治具组成;防溅射装置安装在靠近镀膜治具的下方,主要包括防溅射治具组、弹性卡钩和积尘监控器,防溅射治具组由3‑5对弧形治具构成,成形为由水平挡板和竖直挡板垂直连接组成的长弧形立体挡块状,弧形治具通过弹性卡钩挂载在镀膜炉腔侧壁上,积尘监控器实时监控积尘量;镀膜炉腔的内侧壁设置有挂载槽;本发明有效防止镀膜过程中二次溅射造成沉积膜层产生脏污和尘点导致产品受污染的状况出现,具有拆卸保养简单、工艺简单、总成本低、产能最大化、效率高的特点。

技术领域

本发明涉及一种光学蒸发镀膜设备,尤指一种可防二次溅射污染的光学蒸发镀膜设备。

背景技术

在目前,工业生产中常采用光学真空蒸发镀膜设备为产品表面镀制涂覆膜层,而产品范围十分广泛,如磁性材料、医疗器具器械部件、电路板、电子元器件、半导体材料、光学器件、光电产品、手机配件、饰物或其原材料等,由于镀膜技术的日益成熟使得镀膜效果也较为满意,在真空蒸发镀膜设备的镀膜炉腔室内,电子束加热蒸发是依靠电子束轰击镀膜材料使之升华气化沉积在产品上,由电子枪给坩埚加热,温度为2500℃-3000℃之间,真空状态下电子枪发出的声速为700m/s,但是,电子枪安装的位置接近于镀膜炉腔室壁,电子束加热膜料使其蒸发的过程中膜料在产品上成膜的同时也在其最近腔室壁上成膜,长期作业使其炉体内壁产生灰尘积层,由于不停循环蒸发溅射出来的原子具有一定的能量,可以二次撞击腔室壁形成的膜层,其腔室壁上膜层又因镀膜的沉积次数过多形成尘埃脏污,之后也跟着沉积到镀膜基板上,造成待镀膜产品的膜层内有脏污或尘点,直接导致了这种原子二次溅射影响产品质量。

未解决上述问题,现有的腔室壁护板可阻挡一部分原子或沉积的气化膜料,但在镀制多层膜系时不占优势(如:30-70层),无法防止二次溅射对产品造成的污染、且维护周期过快,维护成本过高,产品良率低;若长期下去,也会严重影响产品质量,使作业过程生产良率低,作业进度缓慢,亦使得资源、人力、时间严重损耗。

发明内容

为解决上述问题,本发明旨在公开一种光学蒸发镀膜设备,尤指一种可防二次溅射污染的光学蒸发镀膜设备。

为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种可防二次溅射污染的光学蒸发镀膜设备,其特征在于,所述的镀膜设备主要包括镀膜炉腔、镀膜装置和防溅射装置;所述镀膜装置主要由电子束蒸发装置、离子装置、镀膜原料和镀膜治具组成;电子束蒸发装置与离子装置安装在镀膜炉腔的底部,镀膜治具为可旋转的圆锥形壳体状,通过中轴处安装旋转中轴从而活动安装在镀膜炉腔顶部的中轴孔处,且镀膜治具上、下表面印设有适配产品排列定位的型印;所述防溅射装置安装在靠近镀膜治具的下方,主要包括防溅射治具组、弹性卡钩和积尘监控器,防溅射治具组由3-5对弧形治具构成,成对的弧形治具对称安装在镀膜炉腔内相对的两侧壁上,弧形治具成形为由水平挡板和竖直挡板垂直连接组成的长弧形立体挡块状,竖直挡板的外侧面与弹性卡钩固定连接,弧形治具通过弹性卡钩挂载在镀膜炉腔侧壁上,所述的积尘监控器实时监控弧形治具挡板内侧的积尘量;镀膜炉腔的内侧壁设置有安装防溅射治具组的挂载槽,挂载槽与弹性卡钩形成嵌套扣合的连接结构。

所述防溅射治具组中的每对弧形治具从上往下依次纵向排列安装在侧壁上,弧形治具的向外延伸边正对在镀膜治具外边缘以内的范围之下。

所述3-5对弧形治具水平挡板的弧长相等,弧宽可设置为宽度均相同,或设置为各弧宽的宽度由下至上依次递增。

所述的弧形治具的竖直挡板与弹性卡钩可以通过焊接固定于一体。

所述的镀膜装置通过电子束蒸发装置和离子装置的电子束加热蒸发与离子溅射结合形成镀膜产品的离子镀镀膜。

所述的电子束蒸发装置主要包括电子束发生装置、坩埚和蒸发角度调节装置,其中蒸发角度调节装置依据镀膜治具和弧形治具的覆盖范围调节蒸发角度以限定镀膜原料蒸发后的沉积范围。

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