[发明专利]生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺

说明书

技术领域：

本发明属于传统民居技术领域，具体涉及一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺。

背景技术：

生土地坑窑居是我国黄土高原地区特有的一种地下建筑形式，历经千年而生生不息，是劳动人民数千年来经验的载体，有着自己独特的文化底蕴，是真正意义上的“绿色建筑”、“低碳建筑”。长期以来，生土地坑窑民居以其冬暖夏凉、节能环保、建筑材料可重复利用的生态优势，以及施工简便、便于取材、低成本的造价优势，在我国黄土高原地区仍然大量存在并一直沿用至今。

作为一种历史悠久的传统建筑，生土地坑窑也存在一些不足之处，最突出的问题就是地坑窑占地面积较大。尽管生土地坑窑直接反应在视觉感受上的占地形式是以天心院形式存在，容纳具体使用功能的窑洞深藏于土层中，不占用地表土地，但由于黄土层一旦遇水，其承重能力将迅速下降，因此，生土地坑窑洞所占用的土层，已经不能作为一般意义的土地使用，不能种植植被，这也导致生土地坑窑实际占地面积要远远大于视觉感受。

自20世纪80年代以来，我国人口剧增，土地资源出现相对紧张的局面，为解决这个问题，政府提出了“平窑还田”的措施来增加土地使用面积，许多村子本着“退宅还耕”的要求，开始填埋地坑院，使地坑院这一传统建筑遭到极大破坏。另外，由于黄土遇水承重性能就显著降低的特性导致了地坑窑存在结构安全受渗水影响较大的缺点，渗水及雨水对土体的冲刷侵蚀是造成窑洞坍塌破坏的主要原因。占地面积过大、土地利用率低，渗水等问题使地坑窑这一极具特色的黄土高原民居类型的存在和发展面临严峻的挑战，地坑窑这种弥足珍贵的民族民间文化遗产正从人们的视野中逐渐消失。

因此，改善生土地坑窑窑洞顶部土层结构形式，使生土地坑窑窑洞顶部土层既防止渗水，又适于植被种植，减少地坑窑占地面积、提高土地利用率，是目前生土地坑窑传统民居迫切需要解决的问题。

发明内容：

综上所述，为了克服现有技术问题的不足，本发明提供了一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构及其施工工艺，它是在生土地坑窑窑洞顶部的土层内增加防水层，能够有效的阻止水分下渗，防止渗水给窑洞造成的破坏，同时使防水层上部的土层保持土壤的水分，从而使生土地坑窑窑洞顶部土层适于植被种植，有效提高土地利用率，降低生土地坑窑的占地面积。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构，其中：包括拦马墙、种植基层及窑顶实土层，所述的拦马墙设置在窑顶实土层的崖面上，种植基层设置在窑顶实土层之上，所述的种植基层包括自下而上依次设置的找坡层、防水层、防水兼保护层、滤水层及土壤层，所述的防水层及防水兼保护层均包括水平部及竖直部，水平部位于找坡层与滤水层之间，竖直部位于拦马墙与种植基层之间。

本发明的技术方案还可以是这样实现的：所述的找坡层与防水层之间设置有基层处理剂层。

本发明的技术方案还可以是这样实现的：所述的找坡层为细石混凝土层，其厚度为至少30mm，其坡度大于等于1：50。

本发明的技术方案还可以是这样实现的：所述的防水层为柔性防水卷材层，或为塑料薄膜层。

本发明的技术方案还可以是这样实现的：所述的防水兼保护层为沥青水泥砂浆层，其厚度为至少20mm。

本发明的技术方案还可以是这样实现的：所述的滤水层为豆石层，其铺设厚度为至少50mm。

本发明的技术方案还可以是这样实现的：所述的土壤层的厚度为至少500mm。

一种生土地坑窑窑顶植被种植基层结构的施工工艺，其中：包括以下步骤：

a、基坑施工

清除生土地坑窑窑顶土体，在窑顶形成基坑，将基坑底面整平并压实，基坑深≥600mm，垂直于崖面方向长度不小于窑室进深的1.2倍；

b、找坡层施工

在基坑底面上铺设一层厚度不小于30mm的细石混凝土找坡层，找坡层的坡度大于等于1：50；

c、基层处理剂层施工

待找坡层的细石混凝土凝结硬化后，在找坡层顶面刷涂基层处理剂，基层处理剂冷却固化后成为基层处理剂层；

d、防水层施工

在基层处理剂层上铺贴至少一层柔性防水卷材或者至少铺贴一层塑料薄膜，柔性防水卷材或塑料薄膜沿拦马墙向上铺贴至地面以上至少250mm处，沿拦马墙向上铺贴部分为防水层的竖直部，基层处理剂层之上部分为防水层水平部；

e、防水兼保护层施工