[发明专利]一种低湿储存箱

说明书

本发明提供一种低湿度存储箱，包括储存箱主体、与储存箱主体相连的气体供应装置和用于测量、显示储存箱主体内的湿度湿度计，箱内为微正压，箱门开启后箱内湿度波动小；且由于采用气体置换湿度高的空气，能迅速恢复箱体内的湿度，并长期将箱内湿度控制在RH5％以下；且；储存箱轻便、刚性高，还具有内部可视性，操作方便，使用寿命长。

技术领域

本发明涉及一种洁净室用储存箱，尤其涉及一种湿度可控的储存箱。

背景技术

伴随着晶元(wafer)生产的微细化、高集成化的发展，对制造环境(洁净室)的要求越来越高，洁净室的湿度一般在40％～55％RH之间，如此高的湿度虽然可以有效预防静电产生，然后也给部分元器件在生产过程中的储存带来极大的不便：(1)如环氧类树脂制成的中间产品在高湿度环境下容易收缩或膨胀，对于高精密的元件，些许膨胀或收缩都可对成品率造成很大的影响；(2)如晶片上的金属线路在氧气和湿气存在环境下容易被氧化，最常见的就是在焊接区域的表面产生一层氧化铝，严重时，该焊接区域会变色或锈蚀。

针对此问题，市面上出现了各式各样的防潮箱，防潮箱结构各异，普遍采用除湿部件，其湿度仅在一定范围内可调节，但难以调至5％RH以下，如专利号为200810212554.2的中国专利公开了一种片材进给器，进给器设置有一个热再生型除湿部件来调节湿度，其湿度很难降至5％RH以下。为此，开发了极低湿干燥柜，在柜内设置若干个除湿主机，其通过化学补位吸湿控制柜内湿度，湿度可达到5％RH以下。但是该极低湿干燥柜存在以下问题：(1)由于柜内为微负压，一旦打开柜门，外部环境的高湿度(40％～55％RH)空气迅速进入并充满柜内，柜内湿度骤升，恢复至5％RH以下耗时长(至少5h以上)；而在晶元(wafer)生产工序中，储存柜柜门开启频繁，开柜门间隔时间可能为2-3h，如此长的平衡时间给生产带来不便；(2)除湿主机比较昂贵，所以干燥柜也比较昂贵，且除湿主机使用寿命有限，更换成本较高；(3)该极低湿干燥柜主材为钢铁，及其笨重，由于晶元(wafer)行业使用的除湿柜在生产工序中常需移动，极为不便。综上原因，该极低湿干燥柜不适于晶元(wafer)行业应用。

发明内容

本发明为解决现有技术中储存箱内湿度难以达到5％RH、可移动性差且平衡时间长的难题，提供一种湿度可控制在5％RH以下、轻便、且可快速平衡的低湿度储存箱。

为解决以上技术问题，本发明提供一种低湿储存箱，包括：

——储存箱主体；

——湿度计，其用于测量和显示储存箱主体内的湿度；

所述低湿度储存箱设置有进气孔和排气孔；

所述储存箱主体还连接有气体供应装置，为储存箱提供气源；

所述储存箱主体设置有N扇用于开关和闭合的箱门；

所述储存箱内从下往上依次设置有第一基板……第N基板，N为大于等于1的整数；

所述基板按照固定的间隔设置，优选按照等距设置；

所述储存箱主体的内壁上以相对的方式设置有N组成对的支持部件；

所述支持部件可为内嵌在主体内壁上的凹槽；

所述基板上设置有至少一个通孔；

所述进气孔设置在储存箱主体的后壁或侧壁的一端，其水平位置低于第一基板；所述进气孔通过进气管连接气体供应装置；

优选所述气体供应装置和进气孔之间设置有调节阀；进一步优选所述调节阀和进气孔之间还设置有压力计；

离进气孔较远的所述侧壁上设置有气流夹层，其通过侧壁上的通孔与储存箱主体联通。

优选所述气流夹层为竖直设置，进一步优选所述气流夹层的下端不高于第一基板的水平位置，上端高于储存箱主体1的顶壁；