[发明专利]一种卧式研磨机在审

专利信息
申请号: 201510703474.7 申请日: 2015-10-27
公开(公告)号: CN105364675A 公开(公告)日: 2016-03-02
发明(设计)人: 马建林 申请(专利权)人: 马建林
主分类号: B24B27/00 分类号: B24B27/00;B24B41/00
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 刘述生
地址: 225000 江苏省扬*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 卧式 研磨机
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种研磨机,特别涉及一种卧式研磨机。

背景技术

研磨机作为一种抛光、磨光设备在机械加工中广泛使用。传动轮转动过程中抛光带随着转动,将工件置于抛光带上即可进行抛光作业。现有的研磨机在加工工件过程中工件固定在工作平台上,再通过抛光带对工件表面进行抛光作业,可以看出,由于工件固定在工作平台上不能移动,使得抛光带只能对工件的固定区域进行抛光作业。一旦工件的宽度大于抛光带的宽度,抛光带就无法对抛光带外的工件表面进行抛光,这样就使研磨机对工件抛光不完整,从而使抛光后的工件不符合标准,造成资源的浪费。目前对大件工件进行抛光工作时,都是先抛光其中一块区域,抛光好后再对另一块区域进行抛光,这样虽解决了对大件工件抛光的问题,但这种方法不仅费时费力,而且由于对工件进行了两次抛光,工件两块区域的抛光效果也会不同,使抛光后的工件不符合标。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有的缺陷,提供一种卧式研磨机,可以方便工作,提高工作效率,可以有效解决背景技术中的问题。

为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:

本发明一种卧式研磨机,包括进料管、分散盘、撑套、分散轴、出料筛圈、前端盖、出料罩、出料盖、密封圈、注油泵和机体,所述机体一端固定设置进料管且所述机体内部设有分散轴,所述分散轴上设有多个分散盘且所述分散轴表面设有撑套,所述分散轴另一端口设有两个出料筛圈且所述出料筛圈设置于出料罩内部,所述机体一侧设有前端盖且所述前端盖与出料罩紧密接触,所述出料罩一侧设有出料盖。

进一步的,所述出料盖一端紧密连接有密封圈且所述密封圈设置与分散轴一端表面。

进一步的,所述密封圈一侧设有圆柱形注油泵。

进一步的,所述分散盘与撑套紧密连接。

进一步的,所述前端盖一端固定设置在分散轴表面上。

与现有技术相比本发明所达到的有益效果是:

本发明结构紧凑,加工精度高,加工材料范围广,保证了加工工件的加工精度和表面粗糙度可以达到比较高的水平,特别适用与高精度的小型工件平面的精加工,研磨抛光过程可随时挑选工件以查看研磨效果,具有良好的经济效益和社会效益,适宜推广使用。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。

在附图中:

图1是本发明实施例所述的整体结构示意图;

图中标号:1、进料管,2、分散盘,3、撑套,4、分散轴,5、出料筛圈,6、前端盖,7、出料罩,8、出料盖,9、密封圈,10、注油泵,11、机体。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例:如图1所示,本发明一种卧式研磨机,包括进料管1、分散盘2、撑套3、分散轴4、出料筛圈5、前端盖6、出料罩7、出料盖8、密封圈9、注油泵10和机体11,所述机体11一端固定设置进料管1且所述机体11内部设有分散轴4,所述分散轴4上设有多个分散盘2且所述分散轴4表面设有撑套3,所述分散轴4另一端口设有两个出料筛圈5且所述出料筛圈5设置于出料罩7内部,所述机体11一侧设有前端盖6且所述前端盖6与出料罩7紧密接触,所述出料罩7一侧设有出料盖8。

作为本发明的一种技术优化方案,所述出料盖8一端紧密连接有密封圈9且所述密封圈9设置与分散轴4一端表面,所述密封圈9一侧设有圆柱形注油泵10,所述分散盘2与撑套3紧密连接,所述前端盖6一端固定设置在分散轴4表面上。

本发明在使用时,采用无级调速系统控制,可轻易调整出适合研磨各种部件的研磨速度。采用电—气比例阀闭环反馈研磨机压力控制,可独立调控压力装置。上盘设置缓降功能,有效的防止薄脆工件的破碎。通过一个时间继电器和一个研磨计数器,可按加工要求准确设置和控制研磨时间和研磨圈数。工作时可调整压力模式,达到研磨设定的时间或圈速时就会自动停机报警提示,实现半自动化操作。

最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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