[发明专利]一种基于化学镀抛光复合工艺的高光洁金属表面制备方法在审
| 申请号： | 201510679369.4 | 申请日： | 2015-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN105177585A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 严志宇;严志军;何红坤;朱新河;程东;董文仲 | 申请（专利权）人： | 大连海事大学 |
| 主分类号： | C23F3/00 | 分类号： | C23F3/00 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 赵淑梅;李馨 |
| 地址： | 116026 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 化学 抛光 复合 工艺 光洁 金属表面 制备 方法 | ||
1.一种基于化学镀抛光复合工艺的高光洁金属表面制备方法，其特征在于：所述制备方法为将化学镀及抛光复合液加在机械抛光后的金属表面上进行抛光。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述化学镀及抛光复合液为化学镀溶液与纳米抛光颗粒的混合液。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述纳米抛光颗粒为粒度≤10nm的金刚石或三氧化二铝。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述化学镀溶液与纳米抛光颗粒的重量比为1：0.02～0.05。
5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述化学镀溶液为主盐硝酸银溶液与还原剂葡萄糖溶液、主盐氯化亚锡溶液与还原剂三氯化钛溶液或主盐硫酸镍溶液与还原剂次亚磷酸钠溶液。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：抛光布与金属抛光面的接触压力为40～200g/cm2。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：抛光布回转速度为30～90r/min。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述抛光金属转速为600～1500r/min。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：抛光温度为20～80℃。
10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括如下步骤：
粗抛光：采用磨轮将金属表面抛光；
精抛光：将抛光液加在粗抛光后的金属表面上进行抛光；
化学镀复合抛光：将化学镀及抛光复合液加在精抛光后的金属表面上进行抛光。
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