[发明专利]一种双组份聚氨酯防水涂料结构在审

专利信息
申请号: 201510678760.2 申请日: 2015-10-19
公开(公告)号: CN105172237A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 沈国兴;杨建国;张金虎 申请(专利权)人: 天津市禹神建筑防水材料有限公司
主分类号: B32B3/30 分类号: B32B3/30;B32B9/04;B32B15/04;B32B7/12;B32B11/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300412 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 双组份 聚氨酯 防水涂料 结构
【说明书】:

技术领域

发明属于建筑防水材料技术领域,尤其是涉及一种双组份聚氨酯防水涂料结构。

背景技术

随着我国科学技术进步和化学建材工业的发展,聚氨酯防水涂料也得到了迅速的发展。在我国防水涂料中,应用范围最广、用量最大的就是聚氨酯防水涂料。由于传统沥青类防水涂料及焦油型聚氨酯防水涂料含有大量萘、蒽、醌类等易挥发物质,会严重危害人们的健康,并对环境造成严重污染。随着社会的进步和人们生活水平的提高,环保和健康引起更为广泛的关注,在高速发展的大环境下,对聚氨酯防水涂也提出了新的要求。因此如何提升聚氨酯防水涂料安全环保的多功能化,成为本技术领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本发明要解决的问题是提供一种结构简单、实用性强、抗冲击力强、水密性高、防水抗渗力强的双组份聚氨酯防水涂料结构。

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种双组份聚氨酯防水涂料结构,包括基层、粘合层、间隔层和防水层;所述基层设置在最底部,所述粘合层设置在基层之上,所述间隔层设置在粘合层之上,所述防水层设置在间隔层之上。

所述基层为金属或非金属材质。

所述粘合层为改性环氧树脂材料。

所述间隔层为表面具有双层突起结构的纳米材料。

所述防水层为预聚体和不含煤焦油的沥青膏状体两种主要组份及催干剂、其他添加剂组成的双组份聚氨酯涂料。

由于采用上述技术方案,基层为金属或非金属材质,拓宽了此结构的安装适用范围。粘合层为改性环氧树脂材料,改性环氧树脂中含有的醚键与极性基团使其具有很高的胶粘强度,对各种金属和大部分非金属均具有良好的附着力和粘合力,不会产生收缩和开裂;使粘合层具有流动性好、不留有空隙、耐腐蚀,且具备密封、绝缘、防漏、紧固的功能,有极好的抗冲击能力,有效吸收爆炸冲击破。间隔层为表面具有双层突起结构的纳米材料,使得水珠或杂质与间隔层的接触面积非常有限,因此水珠在间隔层上滚动同时带走杂质,起到防水抗渗,自清洁的作用。防水层为预聚体和不含煤焦油的沥青膏状体两种主要组份及催干剂、其他添加剂组成的双组份聚氨酯涂料,添加催干剂解决了施工后不干燥或干燥时间过长的难题。

本发明的有益效果是:结构简单、实用性强、抗冲击力强、水密性高、防水抗渗力强的优点。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明的结构示意视图

图中:

1、基层2、粘合层3、间隔层

4、防水层

具体实施方式

如图1所示,本发明一种双组份聚氨酯防水涂料结构,包括基层1、粘合层2、间隔层3和防水层4;所述基层1设置在最底部,所述粘合层2设置在基层1之上,所述间隔层3设置在粘合层2之上,所述防水层4设置在间隔层3之上。所述基层1为金属或非金属材质。所述粘合层2为改性环氧树脂材料。所述间隔层3为表面具有双层突起结构的纳米材料。所述防水层4为预聚体和不含煤焦油的沥青膏状体两种主要组份及其他助剂、添加剂组成的双组份聚氨酯涂料。

基层1为金属或非金属材质,拓宽了此结构的安装适用范围。粘合层2为改性环氧树脂材料,改性环氧树脂中含有的醚键与极性基团使其具有很高的胶粘强度,对各种金属和大部分非金属均具有良好的附着力和粘合力,不会产生收缩和开裂;使粘合层具有流动性好、不留有空隙、耐腐蚀,且具备密封、绝缘、防漏、紧固的功能,有极好的抗冲击能力,有效吸收爆炸冲击破。间隔层3为表面具有双层突起结构的纳米材料,使得水珠或杂质与间隔层的接触面积非常有限,因此水珠在间隔层上滚动同时带走杂质,起到防水抗渗,自清洁的作用。防水层4为预聚体和不含煤焦油的沥青膏状体两种主要组份及催干剂、其他添加剂组成的双组份聚氨酯涂料,添加催干剂解决了施工后不干燥或干燥时间过长的难题。

以上对本发明所提供的一种双组份聚氨酯防水涂料结构进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

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