[发明专利]聚酯薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510658351.6 申请日: 2015-10-12
公开(公告)号: CN105128475A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 孙武 申请(专利权)人: 张家港康得新光电材料有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B27/36;B32B27/18
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 赵囡囡;吴贵明
地址: 215634 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 聚酯 薄膜 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及薄膜材料技术领域,具体而言,涉及一种聚酯薄膜及其制备方法。

背景技术

在现有技术中,通常通过向聚酯中添加抗静电剂和表层涂布抗静电剂这两种方法来实现薄膜的抗静电性能。

第一种方法称为内添加型抗静电聚酯薄膜,其需要将抗静电剂与含微米级SiO2的聚酯粒子共混做成母粒,然后与纯聚酯母粒一起经280℃高温熔融后挤出成型在聚酯薄膜表面。然而该方法由于抗静电成分需耐高温,且通过迁移到聚酯薄膜表面来实现抗静电性能,所以可选择种类少,抗静电性能差。

第二种方法称为涂布型抗静电薄膜,目前主要有两种方式,一种为离线涂布,另一种为在线涂布。其中,离线涂布所需抗静电涂布胶水均为有机溶剂,污染大,涂层厚,且涂布液需涂布在BOPET上,增加一道工序,使成本增加。在线涂布中,应用的抗静电涂布液均为水性涂液,目前在用抗静电剂多为表面活性剂类和导电聚合物类。然而表面活性剂类抗静电剂抗静电性能依赖于环境湿度,在干燥环境下,抗静电性能消失,对使用环境要求较高,25℃下湿度高于40%下才能体现出抗静电性能。

并且,现有的抗静电薄膜中均通过向聚酯中添加微米级SiO2爽滑粒子来实现薄膜的抗黏连和爽滑效果,但由于微米级SiO2粒径较大,且添加量多,容易使薄膜形成晶点、雾点,薄膜无法应用于光学级领域。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种聚酯薄膜及其制备方法,以解决现有的在线涂布中表面活性剂类抗静电剂抗静电性能依赖于环境湿度,且对使用环境要求较高的问题。

为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种聚酯薄膜,包括聚酯层和表面涂层,表面涂层设置于聚酯层的至少一侧表面上,且形成表面涂层的原料包括水性树脂和聚噻吩。

进一步地,聚酯层包括第一聚酯层和第二聚酯层,第一聚酯层设置于第二聚酯层的至少一个表面上,且第一聚酯层中具有纳米级SiO2颗粒。

进一步地,第一聚酯层设置于第二聚酯层的远离表面涂层的一侧。

进一步地,表面涂层中具有微米级SiO2颗粒,且表面涂层的单位体积内的颗粒数为103~108个/cm3

进一步地,纳米级SiO2颗粒的粒径为0.01~0.05μm。

进一步地,微米级SiO2颗粒的粒径为0.1~0.7μm。

进一步地,在表面涂层中水性树脂和聚噻吩的重量比为10:1~20:1。

进一步地,水性树脂为水性聚氨酯和/或水性丙烯酸。

根据本发明的另一方面,提供了一种聚酯薄膜的制备方法,包括:利用包括水性树脂和聚噻吩的原料制备涂布液;将涂布液涂覆于聚酯预备层的一侧表面上,并将涂布液固化形成表面涂层。

进一步地,在将涂布液涂覆于聚酯预备层的一侧表面上的步骤之前,还包括制备聚酯预备层的步骤,包括:将聚酯切片和纳米级SiO2颗粒混合以形成聚酯预备料,并利用聚酯制备聚酯预备料;将聚酯预备料固化并进行纵向拉伸处理,以形成聚酯预备层。

应用本发明的技术方案,本发明提供了一种包括聚酯层和表面涂层的聚酯薄膜,由于制备表面涂层的原料包括水性树脂和聚噻吩,聚噻吩能够使包括有表面涂层的聚酯薄膜具有良好地抗静电性能,且抗静电性能对环境湿度没有要求,而水性树脂能够使聚酯薄膜进行在线拉伸,从而上述聚酯薄膜不仅能够进行有效地在线拉伸,而且拉伸后抗静电性能仍然良好。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:

图1示出了本发明实施方式所提供的表面涂层设置于聚酯层的一侧表面上的聚酯薄膜的剖面结构示意图;

图2示出了本发明实施方式所提供的表面涂层设置于聚酯层的两侧表面上的聚酯薄膜的剖面结构示意图;

图3示出了本发明实施方式所提供的第一聚酯层设置于第二聚酯层的两个表面上的聚酯薄膜的剖面结构示意图;以及

图4示出了本发明实施方式所提供的第一聚酯层设置于第二聚酯层的一个表面上的聚酯薄膜的剖面结构示意图。

具体实施方式

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