[发明专利]一种PMO薄膜的制备方法及应用

权利要求书

1.一种PMO薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)提供如式I所示的酰氯化合物；

(2)制备前驱体分子溶液；将所述酰氯化合物、3-氨基丙基三乙氧基硅烷及三乙胺混合，反应制得前驱体分子溶液；所述前驱体分子溶液中，酰氯化合物:3-氨基丙基三乙氧基硅烷:三乙胺的摩尔比为0.5～1:1～2:1.2～2.4；所述前驱体分子溶液中的前驱体分子的结构式如式II所示：

(3)制备涂膜溶液：向所述前驱体分子溶液中加入模板剂、溶剂和稀盐酸，制得涂膜溶液，所述模板剂的质量为前驱体分子质量的0～100％，所述涂膜溶液中，所述前驱体分子的浓度为0.02～0.04mol/L；

(4)制备PMO薄膜；将所述涂膜溶液涂于基底表面，固化，制得PMO薄膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述酰氯化合物的制备过程为：将1,3-金刚烷二甲酸加入至过量的二氯亚砜中，于60～90℃下反应8～12h，制得反应混合液，所述反应混合液干燥，制得所述酰氯化合物。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述反应混合液使用旋转蒸发仪进行旋干，制得所述酰氯化合物。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，酰氯化合物:3-氨基丙基三乙氧基硅烷:三乙胺的摩尔比为1:2:2.2。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，先将所述酰氯化合物溶于三氯甲烷，再将酰氯化合物的三氯甲烷溶液加入至3-氨基丙基三乙氧基硅烷与三乙胺的混合溶液中，反应制得所述前驱体分子溶液。

6.根据权利要求1或5所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，制备所述前驱体分子溶液的反应温度为室温，反应时间为6～12h。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，所述模板剂为模板剂P123。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，所述溶剂为乙醇。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，所述稀盐酸为0.5M稀盐酸。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在步骤(3)之后步骤(4)之前还包括步骤(3a)，基底预处理；分别使用乙醇、丙酮对所述基底进行超声洗涤，然后将所述基底浸入80～100℃的清洗溶液处理20～40min，冷却，冲洗，制得预处理后的基底；所述清洗溶液含有质量分数为30％的过氧化氢和浓硫酸，所述过氧化氢与浓硫酸的体积比为1:2～5。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于：所述过氧化氢与浓硫酸的体积比为1:3。

12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于：所述基底为硅片。

13.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于：所述基底为N型硅片。

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于：所述N型硅片的电阻率为0.001～0.004Ω·m。

15.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(4)中，使用旋转涂覆仪将涂膜溶液旋涂于基底表面。

16.根据权利要求15所述的制备方法，其特征在于：所述旋转涂覆仪进行旋涂的转速为700～1000rpm。

17.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于：所述旋转涂覆仪进行旋涂的转速为750～950rpm。