[发明专利]一种液相化学去除光纤涂覆层的方法和装置

权利要求书

1.一种光纤涂覆层去除方法的装置，它包括容器以及位于容器中的双层液体结构，其特征是：所述的双层液体结构为处于底层的保护液体和处于上层的腐蚀液体双层结构；所述保护液体密度大于所述腐蚀液体，且相互不发生溶解；所述保护液体不与光纤发生化学反应，也不溶解或溶胀光纤；所述腐蚀液体能够与光纤涂覆层发生化学反应，或者溶解或溶胀光纤涂覆层，但不与光纤的包层发生化学反应。

2.根据权利要求1所述的一种光纤涂覆层去除方法的装置，其特征是：所述的容器内装有三层液体，最底层的第一保护液体、中间层的腐蚀液体和最上层的第二保护液体三层结构，所述第一保护液体密度大于所述腐蚀液体，且相互不发生溶解；所述腐蚀液体密度大于所述第二保护液体，且相互不发生溶解；所述第一保护液体和第二保护液体不与光纤发生化学反应，也不溶解或溶胀光纤。

3.根据权利要求1所述的一种光纤涂覆层去除方法的装置，其特征是：所述的腐蚀液体为强酸性液体。

4.根据权利要求1所述的一种光纤涂覆层去除方法的装置，其特征是：所述的保护液体是不同密度的氟化油。

5.一种光纤涂覆层去除方法，它包括以下步骤：它是将光纤垂直插入光纤涂覆层去除方法的装置中，所述的光纤涂覆层去除方法的装置包括容器以及位于容器中的双层液体结构，所述的双层液体结构为处于底层的保护液体和处于上层的腐蚀液体双层结构；所述保护液体密度大于所述腐蚀液体，且相互不发生溶解；所述保护液体不与光纤发生化学反应，也不溶解或溶胀光纤；所述腐蚀液体能够与光纤涂覆层发生化学反应，或者溶解或溶胀光纤涂覆层，但不与光纤的包层发生化学反应。

6.根据权利要求5所述的一种光纤涂覆层去除方法，其特征是：所述的容器内装有三层液体，最底层的第一保护液体、中间层的腐蚀液体和最上层的第二保护液体三层结构，所述第一保护液体密度大于所述腐蚀液体，且相互不发生溶解；所述腐蚀液体密度大于所述第二保护液体，且相互不发生溶解；所述第一保护液体和第二保护液体不与光纤发生化学反应，也不溶解或溶胀光纤。

7.根据权利要求5所述的一种光纤涂覆层去除方法，其特征是：它包括以下步骤：

(1)、将氟化油保护液体加入玻璃容器内，氟化油保护液体的厚度大于光纤涂覆层保留段的长度；

(2)、再加入浓硫酸腐蚀液体，浓硫酸腐蚀液体的厚度为光纤涂覆层中段去除窗口的长度；

(3)、将液体加热至50摄氏度；

(4)、迅速插入光纤至玻璃容器内，3分钟后迅速取出，再迅速置于去离子水中，超声震荡清洗5分钟；

(5)、取出光纤，100摄氏度烘干。

8.根据权利要求5所述的一种光纤涂覆层去除方法，其特征是：它包括以下步骤：

(1)、将氟化油保护液体加入玻璃容器内，氟化油保护液体的厚度大于光纤涂覆层保留段的长度；

(2)、再加入浓硫酸腐蚀液体，浓硫酸腐蚀液体的厚度为光纤涂覆层中段去除窗口的长度；

(3)、再在浓硫酸腐蚀液体上加入氟化油保护液体；

(4)、将液体加热至50摄氏度；

(5)、迅速插入光纤至玻璃容器内，3分钟后迅速取出，再迅速置于去离子水中，超声震荡清洗5分钟；

(6)、取出光纤，100摄氏度烘干。