[发明专利]一种高发射率玻璃釉料以及由该釉料制备高发射率涂层的方法

权利要求书

1.一种釉料组合物，其特征在于：所述釉料组合物包含玻璃粉料、水和陶瓷分散剂；所述玻璃粉料、水和陶瓷分散剂的质量比为1：2至4：0.01至0.02；

所述玻璃粉料包含熔融石英粉、特硬料玻璃粉、碳化硼粉、二硅化钼粉、和黏土粉；所述玻璃粉料包含40质量％至60质量％的熔融石英粉、20质量％至40质量％的特硬料玻璃粉、4质量％至15质量％的碳化硼粉、3质量％至8质量％的二硅化钼粉、和2质量％至8质量％的黏土粉；

或：所述玻璃粉料包含以下质量比的原料：

熔融石英粉140、特硬料玻璃粉40、碳化硼粉20、二硅化钼粉10、和黏土粉10。

2.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于：

所述水为去离子水；和/或

所述陶瓷分散剂选自由聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、甲基纤维素、pH值为7的聚丙烯酸铵盐、pH值为7的聚甲基丙烯酸铵盐、吐温-80、氨水、聚乙烯醇、聚乙二醇及聚全氟磺酸组成的组。

3.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于：

所述陶瓷分散剂为pH为7的20质量％的聚丙烯酸铵盐水溶液。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的组合物，其特征在于：

所述玻璃粉料的粒径等于或者小于300目。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的组合物，其特征在于：

所述釉料组合物通过将包含粒径等于或者小于300目的玻璃粉料、去离子水和陶瓷分散剂的混合物于磨机中研磨24至48小时，然后取出再过300目筛而制得。

6.根据权利要求5所述的组合物，其特征在于：

所述磨机为球磨机。

7.根据权利要求6所述的组合物，其特征在于：

所述球磨机中的浆料体积与球磨小球的表观体积控制为1：1。

8.根据权利要求6所述的组合物，其特征在于：

所述球磨机的转速控制为200至400rpm。

9.根据权利要求7所述的组合物，其特征在于：

所述球磨小球为氧化锆球，其中直径为1cm、5mm、4mm、3mm、2mm、1mm的小球的质量比为1：1：1：1：1：1。

10.一种在基体上制备釉料涂层的方法，其特征在于，所述方法采用权利要求1-9中任一项所述的釉料组合物制备釉料涂层。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

(1)获得所述釉料组合物；

(2)在基体的表面上涂布所述釉料组合物，形成釉料涂层；

(3)将所述釉料涂层烘干；以及

(4)将烘干的所述釉料涂层烧结，由此在所述基体的表面上形成烧结釉料涂层。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，

所述步骤(2)至(4)进行两次或者更多次。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

(1)获得所述釉料组合物；

(2)在基体的表面上涂布所述釉料组合物，形成第一釉料涂层；

(3)将所涂布的所述第一釉料涂层烘干；

(4)将烘干的第一釉料涂层烧结，由此在所述基体的表面上形成第一烧结釉料涂层；

(5)在所述第一釉料涂层上进一步涂布所述釉料组合物，形成第二釉料涂层；

(6)将所涂布的所述第二釉料涂层烘干；

(7)将烘干的第二釉料涂层烧结，由此在所述基体上的第一釉料涂层的表面上形成第二烧结釉料涂层。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于：

涂布所述第一釉料涂层时的釉料组合物用量为0.01至0.10g/cm²；和/或

涂布所述第二釉料涂层时的釉料组合物用量为0.01至0.05g/cm²。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于：

涂布所述第一釉料涂层时的釉料组合物用量为0.06g/cm²；和/或

涂布所述第二釉料涂层时的釉料组合物用量为0.03g/cm²。