[发明专利]改性薄膜片、其制备方法及涂布机喷嘴清洗方法在审

专利信息
申请号: 201510616556.8 申请日: 2015-09-24
公开(公告)号: CN105175770A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 吴春晖;蒋盛超;杨涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: C08J7/18 分类号: C08J7/18;C08G18/42;B05B15/02
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 改性 薄膜 制备 方法 涂布机 喷嘴 清洗
【说明书】:

技术领域

本发明涉及材料领域,特别涉及一种改性薄膜片、其制备方法及涂布机喷嘴清洗方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)加工工艺中,传统工艺为在基板上沉积膜层,之后在基板上均匀涂布涂料(即含有感光材料的溶液),利用掩膜板进行紫外线曝光和显像,最终得到相应的掩膜图案。

随着玻璃基板的大型化,并考虑到降低涂料的使用量,涂布方式从旋转涂布法转变为狭缝式涂布法。采用狭缝式涂布法,不仅满足了玻璃基板的大型化需求,解决了涂料的使用率,而且降低了成本,提高了生产效率。

随之而来,对于狭缝式涂布机喷嘴清洗液成为了一项必不可少的工序。由于涂料在涂布过程中会在喷嘴里残留,随着溶剂的挥发,涂料中的感光材料部分将会留存于喷嘴内,造成堵塞喷嘴,对于后续的涂布机运行带来影响。因此,必须对喷嘴进行定期清洗。公开号为CN103846183A的中国专利公开了一种涂布机喷嘴清洁装置,通过去胶溶剂溶解残留在喷嘴上的光刻胶,并经排液孔将其排出,顺畅地清除残留在喷嘴上的光刻胶。公开号为CN104128285A的中国专利提供了一种喷嘴清洁装置及其清洁方法,采用机械方式对喷嘴进行自动清理,并通过增加一超声波装置,对机械清理方式无法清理到的喷嘴部分进行彻底清洗,因而清洗效果更好,使用更方便。公开号为102962229A的中国专利提供了一种涂布喷嘴清洗装置,在驱动装置的驱动下,滚轴旋转,且滚轴的表面与涂布喷嘴喙部配合,通过滚轴表面的摩擦力以及吸附力等将涂布喷嘴喙部底端面的变质感光材料去除,进而完成清洁过程。

但是,利用上述喷嘴清洗装置后,还需要用薄膜片进一步清洗,以达到更好的清洗效果。

现有的清洗用薄膜片为聚氨酯材质,由聚氨酯乳液经热固化得到。该种薄膜片清洗效果不佳,而且其质地较硬,没有弹性,容易划伤喷嘴内部。

发明内容

本发明提供一种改性薄膜片、其制备方法及涂布机喷嘴清洗方法,所述改性薄膜片清洁接触面积大,清洗效果好,而且具有微弹性,不易划伤喷嘴内部。

本发明提供了一种改性薄膜片,聚氨酯基底和涂覆于所述基底表面的改性层;所述改性层由N-乙烯基吡咯烷酮与光引发剂经过紫外固化得到。

优选的,所述光引发剂为2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮和1-羟基环己基苯基甲酮中的一种或多种。

优选的,所述光引发剂与N-乙烯基吡咯烷酮的质量比为1~5:100。

本发明还提供了一种改性薄膜片的制备方法,包括以下步骤:

(A)将N-乙烯基吡咯烷酮与光引发剂混合,得到混合液;

(B)将聚氨酯基底浸置在所述混合液中,取出后自然晾干,经过紫外光固化,得到改性薄膜片。

优选的,所述聚氨酯基底的制备方法为:

将聚酯二元醇与异氰酸酯在氮气氛围下,加热搅拌制成预聚体;

用丙酮降低粘度后,用N-甲基二乙醇胺扩链,再加入丙酮降低粘度,加入适量催化剂、亲水扩链剂和交联剂反应,得到聚氨酯预聚体;

用丙酮将所述聚氨酯预聚体稀释后,经三乙胺中和,在快速搅拌条件下加去离子水进行分散,最后减压蒸馏除去丙酮,得到聚氨酯乳液;

将所述聚氨酯乳液经过热固化,得到聚氨酯基底。

优选的,所述光引发剂为2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮和1-羟基环己基苯基甲酮中的一种或多种。

优选的,所述光引发剂与N-乙烯基吡咯烷酮的质量比为1~5:100。

优选的,所述浸置的时间为5~20分钟。

优选的,所述自然晾干的时间为10~20分钟。

优选的,所述紫外固化的时间为1~5分钟。

优选的,所述紫外固化的紫外线波长为200~400nm。

本发明还提供了一种涂布机喷嘴的清洗方法,利用上述技术方案所述的改性薄膜片或者上述技术方案所述方法制备的改性薄膜片对涂布机的喷嘴进行清洗。

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