[发明专利]一种水相有机相搅拌装置有效
申请号: | 201510592241.4 | 申请日: | 2015-09-17 |
公开(公告)号: | CN105126680B | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 高敏华;杨立新;林伯祥 | 申请(专利权)人: | 湖州新奥特医药化工有限公司 |
主分类号: | B01F9/02 | 分类号: | B01F9/02;B01F15/00 |
代理公司: | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙)33232 | 代理人: | 裴金华 |
地址: | 313018 浙江省湖州市南浔*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 搅拌 装置 | ||
技术领域
本发明属于化工加工设备领域,尤其涉及一种水相有机相搅拌装置。
背景技术
现有的对水相有机相原料的搅拌装置通常是垂直设置的搅拌机构,但是水相和有机相的原料是分层的,采用这种结构的搅拌装置无法很好的将最上层物质与最下层物质进行直接的翻搅,所以这样的搅拌方式效率很低。
发明内容
针对现有技术的不足之处本发明提供一种水相有机相搅拌装置,可以通过水平相向设置的两个搅拌装置对原料进行上下翻转式的搅拌从而解决过去分层的水相与有机相原料搅拌效果差的问题。
本发明的技术方案是提供一种水相有机相搅拌装置,包括罐体,所述的罐体水平设置,两端部上以搅拌方向相反的方式设置有隔离型搅拌装置,所述的罐体上设置有用于原料进出的料口管。
作为本发明的优选,所述的隔离型搅拌装置包括设置在所述罐体端部的中心位置的转动轴,所述的转动轴上连接有搅拌叶轮,所述的搅拌叶轮的前方设置有放置搅拌过程中所述搅拌叶轮上的污物进入罐体中部使待加工原料混入杂质的隔离滤网,所述的转动轴的前端部设置有用于在搅拌过程中对搅拌产生的涡轮进行导向的导向锥,所述的导线锥的锥部穿过所述的隔离滤网。
作为本发明的优选,所述的罐体的端部两侧设置有转动架,所述转动架通过翻转轴与所述罐体连接。
作为本发明的优选,所述的翻转轴设置在所述罐体两侧端部中心的上方,所述翻转轴的中心与所述罐体的端部的中心均位于同一条垂直于所述罐体轴向切面的直接上。
作为本发明的优选,所述的罐体的侧壁上设置有导流部,所述的导流部的中心向外凸起使所述的导流部形成漏斗形。
作为本发明的优选,所述的导流部设置在罐体上最接近两侧所述翻转轴的中心连线的一侧的侧壁上。
作为本发明的优选,所述的料口管设置在所述导流部的中心处。
作为本发明的优选,所述的罐体上设置有用于隔离外界温度对搅拌过程中的原料产生影响的保温层。
作为本发明的优选,所述的保温层内设置有导温用的铜管,所述的罐体上设置有均与所述铜管连接的用于进入导温介质的介质进管以及用于导出导温介质的介质出管。
本发明具有以下有益效果:
本发明具有搅拌均匀性高,搅拌过程干扰小的优点。
附图说明
图1为本发明实施例的结构示意图;
图中,1-罐体;2-隔离型搅拌装置;3-料口管;201-转动轴;202-搅拌叶轮;203-隔离滤网;204-导向锥;4-转动架;5-翻转轴;101-导流部;102-保温层;103-铜管;104-介质进管;105-介质出管。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图1所示,本发明实施例包括罐体1,罐体1水平设置,两端部上以搅拌方向相反的方式设置有隔离型搅拌装置2,罐体1上设置有用于原料进出的料口管3。
如图1所示,本发明实施例隔离型搅拌装置2包括设置在罐体1端部的中心位置的转动轴201,转动轴201上连接有搅拌叶轮202,搅拌叶轮202的前方设置有放置搅拌过程中搅拌叶轮202上的污物进入罐体1中部使待加工原料混入杂质的隔离滤网203,转动轴201的前端部设置有用于在搅拌过程中对搅拌产生的涡轮进行导向的导向锥204,导线锥的锥部穿过隔离滤网203。
如图1所示,本发明实施例罐体1的端部两侧设置有转动架4,转动架4通过翻转轴5与罐体1连接。翻转轴5设置在罐体1两侧端部中心的上方,翻转轴5的中心与罐体1的端部的中心均位于同一条垂直于罐体1轴向切面的直接上。
如图1所示,本发明实施例罐体1的侧壁上设置有导流部101,导流部101的中心向外凸起使导流部101形成漏斗形。导流部101设置在罐体1上最接近两侧翻转轴5的中心连线的一侧的侧壁上。料口管3设置在导流部101的中心处。
如图1所示,本发明实施例罐体1上设置有用于隔离外界温度对搅拌过程中的原料产生影响的保温层102。保温层102内设置有导温用的铜管103,罐体1上设置有均与铜管103连接的用于进入导温介质的介质进管104以及用于导出导温介质的介质出管105。
上面所述的实施例仅是对本发明的优选实施方式进行描述,并非对本发明的构思和范围进行限定。在不脱离本发明设计构思的前提下,本领域普通人员对本发明的技术方案做出的各种变型和改进,均应落入到本发明的保护范围,本发明请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。
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