[发明专利]一种激光薄膜元件用超光滑表面熔石英光学基板超声清洗方法

权利要求书

1.一种激光薄膜元件用超光滑表面熔石英光学基板超声清洗方法，其特征在于具体步骤如下：

(1) 将涂有1~3μm氧化硅小球的熔石英光学基板放入80KHz超声纯水槽中，超声时间设置为3分钟，超声输出功率从100%开始以10%步长逐渐降低，找到清洗效率为90%以上的超声最低功率；

(2)在步骤(1)确认的超声最低功率下，分别选择超声时间为3分钟，6分钟，9分钟和12分钟，超声结束后采用Leica显微镜观测熔石英光学基板表面，统计直径超过1μm坑状疵病数量，确认疵病最少的超声时间；

(3)将涂有0.3~1μm氧化硅小球的熔石英光学基板分别放入400KHz超声槽中，将超声功率设置为全功率，超声时间设置为3分钟，注入双氧水，然后分别注入不同量的氨水，找到清洗效率为90%以上时纯水、双氧水、氨水的配比；

(4) 在步骤(3)确认的清洗效率为90%以上的纯水、双氧水、氨水的配比下，每个频率分别选择超声时间为3分钟，6分钟，9分钟和12分钟，超声结束后采用原子力显微镜观测熔石英光学基板表面粗糙度，找到清洗效率大于90%的最短超声时间；

(5)将需要清洗的熔石英光学基板放置入纯水中，根据步骤（1）中确定的超声最低功率及步骤（2）所述的超声时间对熔石英光学基板实施第一阶段超声清洗，以去除熔石英光学基板表面微米尺度颗粒；

(6）将步骤(5)所述的需要清洗的熔石英光学基板放置入纯水和双氧水混合液中，根据步骤（3）中确定的清洗效率为90%以上时纯水、双氧水、氨水的配比加入氨水，并根据步骤（4）中确定的最短超声时间对熔石英光学基板实施第二阶段超声清洗，以去除熔石英光学基板表面亚米尺度颗粒；

(7）将步骤(6)得到的熔石英光学基板放置入纯水槽中，分别采用80KHz以及170KHz各超声1分钟，换水，再次采用80KHz以及170KHz各超声1分钟，慢提拉，获得洁净、干燥的熔石英光学基板，完成表面清洗。

2.根据权利要求1所述的激光薄膜元件用超光滑表面熔石英光学基板超声清洗方法，其特征在于：所述步骤（1）中超声纯水槽采用的超声波发生器的最大输出功率为400W。

3.根据权利要求1所述的激光薄膜元件用超光滑表面熔石英光学基板超声清洗方法，其特征在于：所述步骤（2）中氧化硅小球尺寸为3μm，2μm或1μm中任一种；氧化硅小球的分布密度控制在30～50个/mm²。

4.根据权利要求1所述的激光薄膜元件用超光滑表面熔石英光学基板超声清洗方法，其特征在于：所述步骤（3）中氨水以及双氧水的纯度均为分析纯。