[发明专利]一种喷墨渗透微粉抛光砖的制备方法

权利要求书

1.一种喷墨渗透微粉抛光砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

经微粉布料、压制成型制备微粉坯；

对微粉坯进行抛坯处理，抛坯厚度为0.6～1.0mm；

直接在经抛坯处理的微粉布料坯体上进行喷墨渗透、烧成、表面抛光，抛光厚度介于抛微粉砖厚度和抛全抛釉砖厚度之间，得到所述喷墨渗透微粉抛光砖。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，微粉布料中，微粉面料的配方为：按重量计，烧失量：3.0～6.0%；SiO₂：65～72%；Al₂O₃：17～22%；Fe₂O₃：0.4～0.8%；TiO₂：0.1～0.4%；CaO：0.5～0.8%；MgO：0.5～1.0%；K₂O：1.5～4.0%；Na₂O：1.5～4.0%。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，微粉布料的面料层小于坯体厚度的三分之一。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，喷墨渗透时，喷墨助渗剂通道为1～2个。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括干燥处理，所述干燥处理在抛坯处理之前、抛坯处理和喷墨渗透处理之间、或喷墨渗透处理之后进行。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，喷墨渗透时，砖坯温度为＜42℃。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述喷墨渗透的渗透深度为2～4mm。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，表面抛光时，抛光厚度为1.0～2.0mm。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的制备方法，其特征在于，烧成温度为1200～1250℃，烧成周期为50～90分钟。

10.一种由权利要求1至9中任一项所述的制备方法制备的喷墨渗透微粉抛光砖。