[发明专利]一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备

权利要求书

1.一种真空蒸发源装置，其特征在于，包括蒸镀坩埚和设置于所述蒸镀坩埚出口处的第一盖板和第二盖板，所述第一盖板上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔，所述第二盖板上设置有与所述第一过孔一一对应的第二过孔；所述第二盖板可相对第一盖板沿所述第一盖板延伸方向位置可调地叠置于所述第一盖板上，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，当所述第二盖板相对于第一盖板移动时实现对每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积的调节。

2.根据权利要求1所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板上设置的第一过孔阵列分布，且所述第二盖板上设置的第二过孔阵列分布。

3.根据权利要求2所述的真空蒸发源装置，其特征在于，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔中，第一过孔和第二过孔的大小相同。

4.根据权利要求2所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板中，每相邻的两个所述第一过孔之间的间距为10-100mm。

5.根据权利要求1所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述坩埚为线源坩埚或面源坩埚。

6.根据权利要求1-5任一项所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板设置的第一过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔，且所述第二盖板设置的第二过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔。

7.根据权利要求6所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一过孔和所述第二过孔的形状相同。

8.根据权利要求7所述的真空蒸发源装置，其特征在于，当所述第一过孔和所述第二过孔为圆孔时，所述第一过孔和第二过孔的直径为100μm-5mm。

9.一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的真空蒸发源装置。