[发明专利]一种自适应抛光磨头有效
| 申请号: | 201510562614.3 | 申请日: | 2015-09-07 | 
| 公开(公告)号: | CN105127889B | 公开(公告)日: | 2017-06-23 | 
| 发明(设计)人: | 王飞;马占龙;彭利荣;王高文;隋永新;杨怀江 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 
| 主分类号: | B24B41/04 | 分类号: | B24B41/04;B24B41/00 | 
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 | 
| 地址: | 130000 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 自适应 抛光 | ||
1.一种自适应抛光磨头,其特征在于,包括:
法兰基座(1);
磨头基座(2),其位于所述法兰基座(1)的下方,且与所述法兰基座(1)同心装配;
磨头单元(3),其分布设置于所述磨头基座(2)的下表面;
其中,所述磨头单元(3),包括,
子基座(31),其一端与所述磨头基座(2)的下表面固定连接,且在所述子基座(31)内设置有贯通上下的腔体(311);
子磨头(32),其具有连接部和抛光部,其中,所述连接部位于所述腔体(311)内,与所述腔体(311)的内壁间隙配合,且所述连接部的端部与所述磨头基座(2)的下表面弹性相接;
子基套(33),其套装于所述子基座(31)和所述子磨头(32)的外部,用于对所述子磨头(32)进行移动限位;
所述磨头基座(2)的下表面为弧面,且所述弧面的曲率半径与抛光加工面的最佳拟合球面曲率半径相关;
所述磨头基座(2)的下表面曲率半径R1具体为:R1=R-H+2mm,其中,所述R为抛光加工面的最佳拟合球面曲率半径,所述H为所述磨头单元(3)空载条件下的高度。
2.按照权利要求1所述自适应抛光磨头,其特征在于,所述子磨头(32)连接部的端部通过压簧(34)与所述磨头基座(2)的下表面弹性相接,所述压簧(34)位于所述子基座(31)的腔体(311)内,其一端与所述子磨头(32)连接部相抵,另一端与所述磨头基座(2)的下表面相抵。
3.按照权利要求2所述自适应抛光磨头,其特征在于:所述子磨头(32)连接部的端面设置有盲孔(3211),所述压簧(34)与所述子磨头(32)连接部相抵的一端位于所述盲孔(3211)内。
4.按照权利要求1所述自适应抛光磨头,其特征在于,所述子磨头(32)包括:
活塞(321),其上设置有限位块(3212)与所述子基套(33)配合;
抛光模基底(322),其上表面与所述活塞(321)的端部固定连接;
抛光模(323),其固定设置于所述抛光模基底(322)的下表面。
5.按照权利要求4所述自适应抛光磨头,其特征在于:所述抛光模(323)的材料为聚氨酯或沥青。
6.按照权利要求1所述自适应抛光磨头,其特征在于:所述磨头单元(3)在所述磨头基座(2)的下表面呈多环同心状或者正交矩阵状分布。
7.按照权利要求1所述自适应抛光磨头,其特征在于:所述磨头单元(3)的数量为3~100个。
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