[发明专利]一种光配向装置在审
申请号: | 201510558260.5 | 申请日: | 2015-09-02 |
公开(公告)号: | CN105093699A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 潘海卫;罗凯铭 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/13 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 | ||
【技术领域】
本发明涉及液晶显示器技术领域,特别涉及一种光配向装置。
【背景技术】
目前,薄膜晶体管显示器已经逐渐地占据了显示器的主导地位。而薄膜晶体管显示器常常采用液晶垂直取向(VerticalAlignment,VA)技术来实现广视角,其中高分子安定化垂直配向(PolymerStabilizedVerticalAlignment,PSVA)技术就是其中的比较热门的一种VA技术。PSVA技术和其他技术相同,也需要液晶分子做倾角化处理,这就光配向法处理。光配向法是利用紫外光偏光照射基板上的配向膜,而使配向膜具有光学异向性。配向膜是由涂装在基板上的聚酰亚胺(Polyimide,PI),由于光配向不需要用滚轮摩擦配向膜,因此能提升产品的优良率和生产设备的稳定性。目前普遍的光配向方法都包含一个步骤,那就是先在基板上涂装PI液后,用紫外线(Ultraviolet,UV)偏振光进行光配向,在UV光照射PI液的过程中,PI分子产生化学反应,形成配向膜,从而使液晶(CrystalDisplay,LC)在配向膜分子力作用下有序排列。但是PI液在UV照射过程中,其产生的化学反应会产生有机物杂质挥发,粘附在偏光片的上面,造成光学性能的下降。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种。
本发明的技术方案如下:
一种光配向装置,包括:
光源组,所述光源组包括光源,用于放出紫外线;
调光组,位于所述光源组下面且在所述紫外线射出方向上,并让紫外线穿出,用于对所述紫外线进行调整;
一操作平台,用于承载涂抹有聚酰亚胺液的玻璃基板;以及
一风帘机,用于产生一空气帘,所述空气帘位于所述调光组射出所述紫外线一面与所述操作平台之间。
优选地,所述空气帘位于所述调光组射出所述紫外线的方向上并射出所述紫外线,且覆盖所述调光组。
优选地,所述空气帘的厚度为1~5mm。
优选地,所述空气帘的气压为0.1~1mPa。
优选地,所述空气帘与所述调光组的距离为5~10mm。
优选地,所述光源组的光源为微波紫外灯。
优选地,所述微波紫外灯的功率至少为900MHz。
优选地,所述光源组的光源四周设有反射板,所述反射板形状为半圆型。
优选地,所述调光组包括设在所述紫外线射出方向上的滤波器,所述滤波器用于过滤240~370nm以外的紫外光。
优选地,所述调光组还包括设在所述滤波器后面的线栅偏光片,用于将所述紫外线变成偏振紫外光。
本发明的有益效果:
本发明一种光配向装置,通过风帘机在线栅偏振片上使用洁净干燥的压缩空气制造一层空气帘,对线栅偏振片进行覆盖隔离,有效地防止了线栅偏振片受到PI液在化学反应过程中产生的挥发性的有机物杂质的污染,保证了UV光学性能的稳定。
【附图说明】
图1为本发明的光配向的整体框架结构示意图;
图2为本发明的光配向装置的截面结构示意图;
图3为现有技术的一种光配向装置的截面结构示意图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
实施例1
如图1所示,为本发明的光配向装置10的整体框架结构示意图,如图2所示,为本发明的光配向装置10的截面结构示意图,从图1和图2中可以看出,本发明的一种光配向装置10,总的来说包括光源组20、调光组30、一操作平台50和一风帘机40。
本实施例的光源组20包括光源201,用于放出紫外线,本实施例优选所述光源组20的光源201为微波紫外灯,优选所述微波紫外灯的功率至少为900MHz。另外,为了使光源201产生的光线能够集中起来,最大限度地照射到玻璃基板501上,本实施例优选所述光源组20的光源201四周设有反射板202,且所述反射板202形状为半圆型,这样光源201发射的光线在到达半圆型反射板202时,都向着半圆型反射板202的开口方向射出,光源201的光线得到最大的利用。
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