[发明专利]检测装置、测量装置、曝光装置、物品制造方法和测量方法有效
| 申请号: | 201510553038.6 | 申请日: | 2015-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN105467771B | 公开(公告)日: | 2018-02-27 |
| 发明(设计)人: | 赤松昭郎 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;G01B11/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 宿小猛 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 检测 装置 测量 曝光 物品 制造 方法 测量方法 | ||
1.一种检测装置,检测原件或原件基准部件上的原件标记与基板或基板基准部件上的基板标记,所述原件标记和基板标记经由投影光学系统被布置,其特征在于,所述装置包括:
光学系统,包括成像设备,并且所述光学系统被配置为在所述成像设备上形成原件标记的图像和基板标记的图像,
其中所述光学系统包括具有第一标记和第二标记的检测基准部件,并且所述光学系统被配置为:
在所述原件或原件基准部件上形成第一标记的图像,以及经由所述投影光学系统和所述原件或原件基准部件在所述基板或基板基准部件上形成第二标记的图像,以及
在所述成像设备上形成原件标记的图像、基板标记的图像、所形成的第一标记的图像的图像和所形成的第二标记的图像的图像。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述光学系统被配置为使用波长彼此不同的第一光和第二光分别形成第一标记的图像和第二标记的图像。
3.根据权利要求1所述的装置,其中所述光学系统被配置为使用强度彼此不同的第一光和第二光分别形成第一标记的图像和第二标记的图像。
4.根据权利要求2所述的装置,还包括被配置为发射第一光的第一光源和被配置为发射第二光的第二光源。
5.根据权利要求1所述的装置,还包括第一调整设备和第二调整设备中的至少一个,第一调整设备被配置为调整用于形成第一标记的图像的光的远心性,并且第二调整设备被配置为调整用于形成第二标记的图像的光的远心性。
6.根据权利要求1所述的装置,其中在检测基准部件中形成第二标记从而使得在第二标记与基板标记对准的情况下,第二标记的图像和基板标记的图像彼此不重叠并且第二标记的图像的重心和基板标记的图像的重心彼此重合。
7.根据权利要求1所述的装置,其中所述成像设备被配置为并行拍摄原件标记的图像、基板标记的图像、第一标记的图像和第二标记的图像。
8.一种测量装置,测量原件或原件基准部件上的原件标记与基板或基板基准部件上的基板标记之间的相对位置,其特征在于,所述装置包括:
根据权利要求1-7中任一个所述的检测装置;和
控制器,被配置为基于通过所述检测装置检测的所形成的第一标记的图像的在所述成像设备上形成的图像和所形成的第二标记的图像的在所述成像设备上形成的图像之间的相对位置来获得所述原件标记和基板标记之间的相对位置。
9.根据权利要求8所述的装置,其中所述控制器被配置为基于第一标记的图像和第二标记的图像之间的相对位置的变化量来获得原件标记和基板标记之间的相对位置。
10.根据权利要求9所述的装置,其中所述控制器被配置为事先存储第一标记的图像和第二标记的图像之间的初始相对位置的信息。
11.一种曝光装置,其经由原件将基板曝光于辐射能量,其特征在于,所述装置包括:
投影光学系统,被配置为将来自原件的光投射到基板上;以及
根据权利要求8所述的测量装置。
12.一种制造电子设备的方法,其特征在于,所述方法包括步骤:
使用根据权利要求11所述的曝光装置将基板曝光于辐射能量;
显影曝光的基板;以及
处理显影的基板以制造所述电子设备。
13.一种测量方法,测量原件或原件基准部件上的原件标记与基板或基板基准部件上的基板标记之间的相对位置,所述原件标记和所述基板标记经由投影光学系统被布置,其特征在于,所述方法包括步骤:
在原件或原件基准部件上形成第一标记的图像,以及经由投影光学系统和所述原件或原件基准部件在基板或基板基准部件上形成第二标记的图像;
在图像平面上形成原件标记的图像、基板标记的图像、所形成的第一标记的图像的图像和所形成的第二标记的图像的图像;以及
基于所形成的第一标记的图像的在所述图像平面上形成的图像和所形成的第二标记的图像的在所述图像平面上形成的图像之间的相对位置来获得所述原件标记和基板标记之间的相对位置。
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