[发明专利]显示基板及其制造方法和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。

背景技术

液晶显示装置可包括相对设置的彩膜基板和阵列基板。彩膜基板包括衬底基板和位于衬底基板之上的黑矩阵和色阻，色阻包括R、G或者B，色阻的材料为树脂。

进行性小亮点(Zara)是目前液晶显示装置的光取向(PhotoAlignment，简称：OA)工艺的一个很严重的品质问题，其严重影响了产品的画面品质。进行性Zara在电学检测和模组检测过程中检出率较低，且具有进行性，从而造成客户端严重的品质问题，进而造成终端市场严重的品质问题。究其原因主要是OA工艺中进行高温加热时，彩膜基板中的色阻的树脂材料因高温发生变性，从而造成微小的粒子扩散到阵列基板表面，经过一定时间后，逐步积聚产生进行性Zara。因为该不良具有进行性，所以叫做进行性Zara。

发明内容

本发明提供一种显示基板及其制造方法和显示装置，用于避免进行性Zara的产生。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的黑矩阵、色阻和阻挡层，所述阻挡层位于所述黑矩阵和所述色阻的上方，所述阻挡层用于阻挡和/或所述黑矩阵所述色阻产生的粒子以避免产生的粒子扩散到与所述显示基板相对的对置基板。

可选地，还包括：保护层；

所述保护层位于所述阻挡层之上。

可选地，所述阻挡层的材料为透明金属氧化物。

可选地，所述阻挡层的厚度为至

可选地，所述阻挡层的材料为透明无机非金属材料。

可选地，所述阻挡层的厚度为至

为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置，包括：相对设置的对置基板和上述显示基板。

可选地，所述显示基板为彩膜基板，所述对置基板为高级超维场转换阵列基板或者平面转换阵列基板。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括：

在衬底基板的上方形成黑矩阵和色阻；

在所述衬底基板的上方形成阻挡层，所述阻挡层位于所述黑矩阵和所述色阻的上方，所述阻挡层用于阻挡所述色阻和/或所述黑矩阵产生的粒子以避免产生的粒子扩散到与所述显示基板相对的对置基板。

为实现上述目的，本发明提供了，还包括：

在所述衬底基板的上方形成保护层，所述保护层位于所述阻挡层之上。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置的技术方案中，阻挡层位于黑矩阵和色阻的上方，阻挡层可阻挡色阻和/或黑矩阵产生的粒子，避免了产生的粒子扩散到与显示基板相对的对置基板，从而避免了进行性Zara的产生。

附图说明

图1为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图；

图2为本发明实施例三提供的一种显示基板的制造方法的流程图；

图3a为实施例三中形成黑矩阵和色阻的示意图；

图3b为实施例三中形成阻挡层的示意图；

图3c为实施例三中形成保护层的示意图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置进行详细描述。

图1为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图，如图1所示，该显示基板包括：衬底基板11和位于衬底基板11上方的黑矩阵12、色阻13和阻挡层14，阻挡层14位于黑矩阵12和色阻13的上方，阻挡层14用于阻挡色阻13和/或黑矩阵12产生的粒子以避免产生的粒子扩散到与显示基板相对的对置基板。

本实施例中，若在高温加热时仅有色阻13产生粒子，则阻挡层14用于阻挡色阻13产生的粒子以避免色阻13产生的粒子扩散到与显示基板相对的对置基板；若在高温加热时仅有黑矩阵12产生粒子，则阻挡层14用于阻挡黑矩阵12产生的粒子以避免黑矩阵12产生的粒子扩散到与显示基板相对的对置基板；若在高温加热时色阻13和黑矩阵12均产生粒子，则阻挡层14用于阻挡色阻13产生的粒子和黑矩阵12产生的粒子以避免色阻13产生的粒子和黑矩阵12产生的粒子扩散到与显示基板相对的对置基板。

本实施例中，色阻13可包括红色色阻R、绿色色阻G或者蓝色色阻B，则衬底基板11上形成的多个色阻13包括红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B。在实际应用中，色阻13还可以为其它颜色的色阻，此处不再一一列举。

可选地，该显示基板还可以包括保护层15。保护层15位于阻挡层14之上。