[发明专利]基于相对位置测量的对准系统、双工件台系统及测量系统

权利要求书

1.一种基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，包括：

主框架；

对准传感器，所述对准传感器固定在所述主框架上；

光强信号采集处理模块，所述光强信号采集处理模块获取所述对准传感器输出的光信号，将所述光信号转换成数字电信号，并输出所述数字电信号；

反射镜，所述反射镜设置于所述对准传感器上；

工件台，所述对准传感器悬浮于所述工件台的上方，所述工件台用于放置一硅片，所述硅片包括一对准标记；

位置采集模块，所述位置采集模块获取所述反射镜及所述工件台的位置数据，输出所述反射镜及所述工件台的相对位置数据；及

对准操作与管理模块，所述对准操作与管理模块获取所述数字电信号及所述相对位置数据并处理，计算出所述对准标记的对准位置。

2.如权利要求1所述的基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，所述对准传感器内的照明模块提供紫外光或超紫外光对所述对准标记进行对准照明辐射。

3.如权利要求2所述的基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，所述对准传感器内包含有光电探测器，所述光电探测器探测并接收所述对准标记上的反射和衍射光束，输出所述光信号。

4.如权利要求1所述的基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，所述位置采集模块还包括一提供可见光光束的光源模块。

5.如权利要求4所述的基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，所述光源模块发射一第一可见光束到所述反射镜，经所述反射镜后反射出一参考光束；同时，所述光源模块发射一第二可见光束到所述工件台，经所述工件台后反射出一测量光束。

6.如权利要求5所述的基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，所述位置采集模块还包括一光电系统，所述光电系统接收所述参考光束，并生成参考光电信号。

7.如权利要求5所述的基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，所述位置采集模块还包括一光电系统，所述光电系统接收所述测量光束，生成测量光电信号。

8.如权利要求1所述的基于相对位置测量的对准系统，其特征在于，所述对准传感器悬浮于所述工件台中心的正上方。

9.一种双工件台系统，其特征在于，包括：如权利要求1-8中任意一项所述的基于相对位置测量的对准系统、固定在所述主框架上的投影物镜、与所述投影物镜对应的曝光位工件台，所述基于相对位置测量的对准系统中的工件台为测量位工件台。

10.如权利要求9所述的双工件台系统，其特征在于，所述投影物镜悬浮于所述曝光位工件台中心的正上方。

11.一种测量系统，其特征在于，包括：

第一测量装置，包括探测源，通过所述探测源发射测量信号至探测物，并获得探测信号；

第二测量装置，用于探测上述探测源，并获得影响上述探测信号正确率的扰动信号；

信号处理装置，用于接收上述探测信号，及上述扰动信号，通过上述扰动信号，修正上述探测信号；

其中，所述第一测量装置为对准装置，所述探测源为对准传感器，所述探测物为对准标记，所述测量信号为光信号；

所述第二测量装置为位置采集模块，所述扰动信号为上述对准传感器与所述探测物的相对位置数据；

所述位置采集模块在上述对准传感器上设置有反射镜，所述相对位置数据是通过所述反射镜获得的。

12.如权利要求11所述的测量系统，其特征在于，所述位置采集模块还包括一光源模块，所述光源模块提供可见光光束。

13.如权利要求12所述的测量系统，其特征在于，所述光源模块发射一第一可见光束到所述反射镜，经所述反射镜后反射出一参考光束；同时，所述光源模块发射一第二可见光束到所述探测物，经所述探测物后反射出一测量光束。

14.如权利要求13所述的测量系统，其特征在于，所述位置采集模块还包括光电转换模块，所述光电转换模块接受所述参考光束，并生成参考光电信号；所述光电转换模块接收所述测量光束，并生成测量光电信号；根据所述参考光电信号和所述测量光电信号，获得所述对准传感器与所述探测物的相对位置数据。