[发明专利]发光二极管有效
| 申请号: | 201510547355.7 | 申请日: | 2013-02-27 |
| 公开(公告)号: | CN105047773B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
| 发明(设计)人: | 傅毅耕 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 源层 发光二极管 量子 蓝宝石基板 第二电极 第一电极 量子阱层 半导体层 掺杂N型 光波长 活性区 两层 | ||
1.一种发光二极管,包括:
一基板;
一N型半导体层与一P型半导体层,其中该N型半导体层位于该基板与该P型半导体层之间;
一有源层,位于该N型半导体层以及该P型半导体层之间,该有源层发出的光波长λ满足222nm≤λ≤405nm,该有源层包括i层的量子磊层以及(i-1)层量子阱层,各量子阱层位于任意两层量子磊层之间,且i为大于等于2的自然数,该i层中各量子磊层的厚度自该P型半导体层侧起算依序为T1、T2、T3…Ti,其中T1大于T2与T3;以及
一第一电极以及一第二电极,其中该第一电极位于该N型半导体层的部分区域上,且该第二电极位于该P型半导体层的部分区域上。
2.如权利要求1所述的发光二极管,其中T2≥T3。
3.如权利要求1所述的发光二极管,其中在该i层量子磊层中,最靠近该N型半导体层的厚度Ti为最薄。
4.如权利要求1所述的发光二极管,其中掺杂N型杂质于所述量子磊层中的至少k层,k为大于等于1的自然数,当i为偶数时,k≥i/2,当i为奇数时,k≥(i-1)/2。
5.如权利要求1所述的发光二极管,其中所述量子磊层的材料包括AlxInyGa1-x-yN,其中0≤x≤1,0≤y≤0.3,且x+y≤1。
6.如权利要求1所述的发光二极管,其中所述量子阱层的材料包括AlmInnGa1-m-nN,其中0≤m<1,0≤n≤0.5,m+n≤1,且x>m,n≥y。
7.一种发光二极管,包括:
一基板;
一N型半导体层与一P型半导体层,其中该N型半导体层位于该基板与该P型半导体层之间;
一有源层,位于该N型半导体层以及该P型半导体层之间,该有源层发出的光波长λ满足222nm≤λ≤405nm,该有源层包括i层的量子磊层以及(i-1)层量子阱层,各量子阱层位于任意两层量子磊层之间,且i为大于等于2的自然数,该i层中各量子磊层的厚度自该P型半导体层侧起算依序为T1、T2、T3…Ti,其中该i层量子磊层中厚度满足:T1=T2>T3;以及
一第一电极以及一第二电极,其中该第一电极与该第二电极分别位于该N型半导体层的部分区域上与该P型半导体层的部分区域上。
8.如权利要求7所述的发光二极管,其中在该i层量子磊层中,最靠近该N型半导体层的厚度Ti为最薄。
9.如权利要求7所述的发光二极管,其中掺杂N型杂质于所述量子磊层中的至少k层,k为大于等于1的自然数,当i为偶数时,k≥i/2,当i为奇数时,k≥(i-1)/2。
10.如权利要求7所述的发光二极管,其中所述量子磊层的材料包括AlxInyGa1-x-yN,其中0≤x≤1,0≤y≤0.3,且x+y≤1。
11.如权利要求7所述的发光二极管,其中所述量子阱层的材料包括AlmInnGa1-m-nN,其中0≤m<1,0≤n≤0.5,m+n≤1,且x>m,n≥y。
12.一种发光二极管,包括:
一基板;
一N型半导体层与一P型半导体层,其中该N型半导体层位于该基板与该P型半导体层之间;
一有源层,位于该N型半导体层以及该P型半导体层之间,该有源层发出的光波长λ满足222nm≤λ≤405nm,该有源层包括i层的量子磊层以及(i-1)层量子阱层,各量子阱层位于任意两层量子磊层之间,且i为大于等于2的自然数,该i层中各量子磊层的厚度自该P型半导体层侧起算依序为T1、T2、T3…Ti,在该些量子磊层中,最靠近该P型半导体层侧的厚度T1最大,而最靠近该N型半导体层侧的厚度Ti最小;以及
一第一电极以及一第二电极,其中该第一电极与该第二电极分别位于该N型半导体层的部分区域上与该P型半导体层的部分区域上。
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