[发明专利]发光二极管有效

专利信息
申请号: 201510547355.7 申请日: 2013-02-27
公开(公告)号: CN105047773B 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 傅毅耕 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 源层 发光二极管 量子 蓝宝石基板 第二电极 第一电极 量子阱层 半导体层 掺杂N型 光波长 活性区 两层
【权利要求书】:

1.一种发光二极管,包括:

一基板;

一N型半导体层与一P型半导体层,其中该N型半导体层位于该基板与该P型半导体层之间;

一有源层,位于该N型半导体层以及该P型半导体层之间,该有源层发出的光波长λ满足222nm≤λ≤405nm,该有源层包括i层的量子磊层以及(i-1)层量子阱层,各量子阱层位于任意两层量子磊层之间,且i为大于等于2的自然数,该i层中各量子磊层的厚度自该P型半导体层侧起算依序为T1、T2、T3…Ti,其中T1大于T2与T3;以及

一第一电极以及一第二电极,其中该第一电极位于该N型半导体层的部分区域上,且该第二电极位于该P型半导体层的部分区域上。

2.如权利要求1所述的发光二极管,其中T2≥T3

3.如权利要求1所述的发光二极管,其中在该i层量子磊层中,最靠近该N型半导体层的厚度Ti为最薄。

4.如权利要求1所述的发光二极管,其中掺杂N型杂质于所述量子磊层中的至少k层,k为大于等于1的自然数,当i为偶数时,k≥i/2,当i为奇数时,k≥(i-1)/2。

5.如权利要求1所述的发光二极管,其中所述量子磊层的材料包括AlxInyGa1-x-yN,其中0≤x≤1,0≤y≤0.3,且x+y≤1。

6.如权利要求1所述的发光二极管,其中所述量子阱层的材料包括AlmInnGa1-m-nN,其中0≤m<1,0≤n≤0.5,m+n≤1,且x>m,n≥y。

7.一种发光二极管,包括:

一基板;

一N型半导体层与一P型半导体层,其中该N型半导体层位于该基板与该P型半导体层之间;

一有源层,位于该N型半导体层以及该P型半导体层之间,该有源层发出的光波长λ满足222nm≤λ≤405nm,该有源层包括i层的量子磊层以及(i-1)层量子阱层,各量子阱层位于任意两层量子磊层之间,且i为大于等于2的自然数,该i层中各量子磊层的厚度自该P型半导体层侧起算依序为T1、T2、T3…Ti,其中该i层量子磊层中厚度满足:T1=T2>T3;以及

一第一电极以及一第二电极,其中该第一电极与该第二电极分别位于该N型半导体层的部分区域上与该P型半导体层的部分区域上。

8.如权利要求7所述的发光二极管,其中在该i层量子磊层中,最靠近该N型半导体层的厚度Ti为最薄。

9.如权利要求7所述的发光二极管,其中掺杂N型杂质于所述量子磊层中的至少k层,k为大于等于1的自然数,当i为偶数时,k≥i/2,当i为奇数时,k≥(i-1)/2。

10.如权利要求7所述的发光二极管,其中所述量子磊层的材料包括AlxInyGa1-x-yN,其中0≤x≤1,0≤y≤0.3,且x+y≤1。

11.如权利要求7所述的发光二极管,其中所述量子阱层的材料包括AlmInnGa1-m-nN,其中0≤m<1,0≤n≤0.5,m+n≤1,且x>m,n≥y。

12.一种发光二极管,包括:

一基板;

一N型半导体层与一P型半导体层,其中该N型半导体层位于该基板与该P型半导体层之间;

一有源层,位于该N型半导体层以及该P型半导体层之间,该有源层发出的光波长λ满足222nm≤λ≤405nm,该有源层包括i层的量子磊层以及(i-1)层量子阱层,各量子阱层位于任意两层量子磊层之间,且i为大于等于2的自然数,该i层中各量子磊层的厚度自该P型半导体层侧起算依序为T1、T2、T3…Ti,在该些量子磊层中,最靠近该P型半导体层侧的厚度T1最大,而最靠近该N型半导体层侧的厚度Ti最小;以及

一第一电极以及一第二电极,其中该第一电极与该第二电极分别位于该N型半导体层的部分区域上与该P型半导体层的部分区域上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510547355.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top