[发明专利]一种用于油缸防腐的带压循环装置及液压支架有效

专利信息
申请号: 201510534453.7 申请日: 2015-08-27
公开(公告)号: CN105041747B 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 王振德;常镝;李建光 申请(专利权)人: 三一重型装备有限公司
主分类号: F15B11/08 分类号: F15B11/08;F15B13/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 110027 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 防腐 循环 装置 液压 支架
【说明书】:

技术领域

发明涉及煤炭行业设备中的液压支架,具体涉及一种用于油缸防腐的带压循环装置及液压支架。

背景技术

煤炭行业设备中的液压支架采用水基质液压油缸,其工作介质为水基质乳化液(5%乳化油,95%水混合而成)。由于工作介质为水基质,导致液压油缸内表面容易腐蚀生锈。更重要的是,通过研究发现,液压支架设备中最重要的两个油缸立柱与平衡油缸都存在内部介质乳化液长期不流动的现状。由于介质长期不流动,导致介质变质,从而加速腐蚀油缸,造成油缸生锈失去丧失功能。目前广泛采用的是解决方法是油缸缸筒内壁及活塞杆外壁镀层或其他表面处理方法增加油缸表面防腐性能。采用镀层或其他表面处理方法对工艺要求较高,镀层常出现脱落或磨损现象,不能简单有效的解决油缸防腐的问题。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种用于油缸防腐的带压循环装置以及含有该带压循环装置的液压支架,用以解决油缸由于长期处于半行程状态,导致内部水基质溶液无法循环而变质,至使油缸内表面加速腐蚀的问题。

为了实现上述目的,本发明的技术方案是:一种用于油缸防腐的带压循环装置,所述油缸具有工作腔室,所述工作腔室内具有活塞和 工作介质,所述活塞将工作腔室分为第一腔室Ⅰ和第二腔室Ⅱ,所述第一腔室Ⅰ连接有能够使所述第一腔室Ⅰ内的所述工作介质循环流动的辅助系统,所述辅助系统能够保证所述油缸输出的液压力。

进一步的改进在于:所述辅助系统包括第三管路L3和第四管路L4,所述第三管路L3和第四管路L4的一端与所述第一腔室Ⅰ连接,另一端连接有第一换向阀Ⅰ。

进一步的改进在于:所述辅助系统还包括顺序阀,所述顺序阀设置在所述第三管路L3或第四管路L4上。

进一步的改进在于:所述辅助系统还包括设置在第三管路L3或第四管路L4上的单向阀。

进一步的改进在于:所述辅助系统还包括设置在所述第三管路L3或第四管路L4上的液控单向阀,所述液控单向阀和所述单向阀设置在不同的管路上。

进一步的改进在于:所述装置还包括第一管路L1和第二管路L2,所述第一管路L1和第二管路L2一端与所述油缸连接,另一端与第二换向阀Ⅱ连接,所述第一管路L1或第二管路L2上设置有安全阀。

进一步的改进在于:所述第一换向阀Ⅰ为两位四通换向阀,所述第二换向阀Ⅱ为三位四通换向阀。

一种液压支架,所述液压支架含有上述的带压循环装置。

本发明与现有技术相比,其利用“流水不腐”的原理,通过在油缸上增加另一外一套管路,通过液压阀控制,使工作介质定期循环,从而有效避免介质变质,有效防止油缸腐蚀;且通过设置顺序阀、单向阀、液控单向阀,使辅助系统工作时保证原系初撑力不受影响,从而保证系统安全。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

附图1为用于油缸防腐的带压循环装置的整体示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

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