[发明专利]自动调节离子阱内气压的质谱装置及操作方法

权利要求书

1.一种自动调节离子阱内气压的质谱装置，其特征在于，包括离子阱、用于检测离子阱内离子分离检测的检测器、缓冲气流量控制器、离子阱内真空测量计和自动调节阱内真空度的运算功能模块，所述缓冲气流量控制器与离子阱后端通过气体导管连通，所述离子阱内真空测量计与离子阱前端通过气体导管连通，所述运算功能模块分别与离子阱内真空测量计和缓冲气流量控制器通信连接。

2.根据权利要求1所述的自动调节离子阱内气压的质谱装置，其特征在于，所述离子阱包括设置在其内部的两组电极、设置在其两端的前端盖、后端盖和导气盖板，每组电极包括两个相向设置的电极，两组电极旋转对称设置；所述前端盖中心开有离子导入孔，在离子导入孔周围成环形均布多个缓冲气导出孔；所述后端盖中心开有离子导出孔，在所述离子导出孔周围成环形均布多个缓冲气导入孔，所述导气盖板为环形盖板，所述环形盖板设置在前端盖和后端盖的外侧，前端盖和相近的环形盖板之间以及后端盖和相近的环形盖板之间形成环形腔，所述环形板的中间通孔大于等于前端盖的离子导入孔和后端盖的离子导出孔，所述前端盖上的缓冲气导出孔和后端盖上的缓冲气导入孔均与相应的环形腔导通。

3.根据权利要求2所述的自动调节离子阱内气压的质谱装置，其特征在于，所述导气盖板为导电绝缘体，所述前端盖和后端盖为导电电极片，所述导电电极片的厚度为0.8～1.2mm。

4.根据权利要求2或3所述的自动调节离子阱内气压的质谱装置，其特征在于，所述前端盖上的离子导入孔和缓冲气导出孔与后端盖上的离子导出孔和缓冲气导入孔均一一对应设置，所述离子导入孔和离子导出孔的直径为1mm，缓冲气导出孔和缓冲气导入孔的直径为0.5mm，所述离子导入孔和缓冲气导出孔之间的圆心距为1.5mm，离子导出孔和缓冲气导入孔之间的圆心距为1.5mm。

5.一种自动调节离子阱内气压的质谱装置的全扫描操作方法，其特征在于，依次包括如下步骤：

S1，自动调节阱内真空度的运算功能模块控制缓冲气流量控制器，增大缓冲气流量，实现离子阱气压由1×10^-5Torr上升到5×10^-3Torr，获得离子阱内高气压，便于离子的注入；

S2，打开离子阱的离子门，向离子阱注入离子；

S3，关闭离子阱的离子门，对离子进行阱内整形、离子与缓冲气碰撞，降低离子的初始动能；

S4，自动调节阱内真空度的运算功能模块控制缓冲气流量控制器，降低缓冲气流量，实现离子阱气压由5×10^-3Torr降低到1×10^-5Torr，获得离子阱内低气压，便于离子分离检测的注入，在此过程中，进行离子整形，增大离子阱端盖电压，将离子群向离子阱中心挤压；

S5，自动调节阱内真空度的运算功能模块控制检测器对离子阱内的离子进行分离检测操作，获得不同质荷比离子的信号强度。

6.根据权利要求5所述的自动调节离子阱内气压的质谱装置的全扫描操作方法，其特征在于地，步骤S1和步骤S4的两次气压调节所需时间为在保证目标气压稳定度小于10％时的短时间。