[发明专利]一种涂布装置及其清除异物误报的方法在审
申请号: | 201510530707.8 | 申请日: | 2015-08-26 |
公开(公告)号: | CN105214906A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 张桂梅 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | B05C11/00 | 分类号: | B05C11/00 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 及其 清除 异物 方法 | ||
1.一种涂布装置,其特征在于,包括:
涂布基台,用于承载玻璃基板;
涂布机构,用于在所述玻璃基板上涂布光刻胶;
异物检传感器,用于检测所述玻璃基板上的物体,将检测到的所述玻璃基板上的物体的光学信号发送至图像传感器,并在检测到的所述光学信号的光量值低于设定的阈值时报警;
图像传感器,用于接收所述异物检传感器发送的所述光学信号,并将所述光学信号转换成图像信号发送至显示屏;以及
显示屏,用于接收并显示所述图像传感器发送的所述图像信号。
2.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述异物检传感器设在所述涂布机构的排架的底端,所述图像传感器设在所述涂布机构的排架的中部,所述异物检传感器与所述图像传感器处于所述涂布机构的排架的同一侧,所述图像传感器与所述显示屏通过电线连接。
3.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,还包括一涂布导轨机构,所述涂布机构的排架设于所述涂布导轨机构上并沿所述涂布导轨机构往复运动。
4.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述涂布机构的排架的下端面设有口金及导板,所述导板的底端低于所述口金的尖端。
5.根据权利要求4所述的涂布装置,其特征在于,所述导板的底端低于所述口金的尖端18~22um。
6.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述异物检传感器包括一光源及一传感器,所述光源与所述传感器相对设在所述排架的同一侧的两底端。
7.根据权利要求6所述的涂布装置,其特征在于,所述光源为LED光源,所述LED光源平行照射向所述传感器,所述LED光源的发出的光线遇到被照射物体时,所述被照射物体遮挡一部分射向所述传感器的所述光线,并将一部分所述光线散射到所述图像传感器上。
8.一种如权利要求1~7所述的涂布装置的清除异物误报的方法,其特征在于,包括以下步骤:
所述异物检传感器检测承载在所述涂布基台上的所述玻璃基板上的物体的光学信号,并将所述光学信号发送至所述图像传感器;
所述图像传感器将接收到的所述光学信号转换成图像信号发送至所述显示屏;以及
所述显示屏将接收到的所述图像信号显示出来,以供工作人员判断所述玻璃基板上的物体是否为颗粒异物。
9.根据权利要求8所述的清除异物误报的方法,其特征在于,所述步骤还包括:当所述异物检传感器在检测到所述光学信号的光量值低于设定的阈值时报警。
10.根据权利要求9所述的清除异物误报的方法,其特征在于,所述步骤还包括:当所述异物检传感器报警时,所述工作人员根据所述显示屏所显示的图像进行判断,若确定所述图像为颗粒异物,则进行宕机处理,并将所述异物清除后再进行涂布,否则将其忽略,继续进行涂布。
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