[发明专利]一种PCIE卡槽防尘盖及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201510526064.X 申请日: 2015-08-25
公开(公告)号: CN105116974A 公开(公告)日: 2015-12-02
发明(设计)人: 于浩 申请(专利权)人: 浪潮电子信息产业股份有限公司
主分类号: G06F1/18 分类号: G06F1/18
代理公司: 济南信达专利事务所有限公司 37100 代理人: 李世喆
地址: 250100 山东*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 pcie 防尘盖 及其 使用方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及计算机硬件领域,特别涉及一种PCIE卡槽防尘盖及其使用方法。

背景技术

随着计算机技术的不断发展与进步,计算机及服务器系统成为人们生活和工作必不可少的工具。PCIE卡槽是计算机及服务器系统中必不可少的元件,通过PCIE卡槽将主板与各类PCIE卡相连,实现计算机及服务器系统的正常运行,其中PCIE卡一般包括显卡、SAS卡等。

PCIE卡槽中的弹片与PCIE卡的金手指相接触,实现数据的传递,针对现有PCIE卡槽,将PCIE卡插入PCIE卡槽后,仍有部分弹片裸露在外面,而且由于PCIE卡槽的结构设计,其插入口大部分面积直接暴露在外边。

无论是个人计算机还是服务器,在使用一段时间后肯定会在机箱或者机柜内出现很多灰尘,当这些灰层附着到PCIE卡槽的弹片上时,使PCIE卡槽的弹片受到污染,影响弹片与PCIE卡金手指的接触,当PCIE卡槽的弹片与显卡、SAS卡的金手指接触不良时,会导致个人计算机或服务器出现宕机的情况,影响个人计算机或服务器的正常使用,因而计算机的稳定性较低。

发明内容

本发明提供一种PCIE卡槽防尘盖及其使用方法,能够提高计算机的稳定性。

本发明实施例提供了一种PCIE卡槽防尘盖,包括:防尘盖本体及至少两个固定卡扣;

所述防尘盖本体为片状结构,在所述防尘盖本体上设置有允许所述PCIE卡槽对应的PCIE卡的金手指通过的第一通孔;

所述至少两个固定卡扣一端固定在所述防尘盖本体上,用于固定所述防尘盖本体的位置。

优选地,该PCIE卡槽防尘盖进一步包括:防潮垫片;

所述防潮垫片与所述防尘盖本体形状相同,且在所述防潮垫片上与所述第一通孔对应的位置上设置有与所述第一通孔相同形状的第二通孔。

优选地,所述防尘盖本体为长方形片状结构,其中所述防尘盖本体的长度等于所述PCIE卡槽的长度,所述防尘盖本体的宽度等于所述PCIE卡槽的宽度;

所述第一通孔为长方形,其中所述第一通孔的长度大于所述PCIE卡的金手指的长度,所述第一通孔的宽度大于所述PCIE卡的金手指的厚度;

所述第一通孔在所述防尘盖本体上的位置能够保证当所述防尘盖本体的长度边及宽度边分别与所述PCIE卡槽的长度边及宽度边对齐时,所述PCIE卡的金手指能够插入所述PCIE卡槽。

优选地,所述防潮垫片为长方形,其中所述防潮垫片的长度与所述防尘盖本体的长度相等,所述防潮垫片的宽度与所述防尘盖本体的宽度相等;

所述第二通孔为长方形,其中所述第二通孔的长度与所述第一通孔的长度相等,所述第二通孔的宽度与所述第一通孔的宽度相等;

所述第二通孔在所述防潮垫片上的位置能够保证所述防潮垫片的长度边及宽度边分别与所述PCIE卡槽的长度边及宽度边对齐时,所述PCIE卡的金手指能够插入所述PCIE卡槽。

优选地,所述至少两个固定卡扣分别固定在所述长方形防尘盖本体的两条长度边上,且任意两个分别固定于所述长方形防尘盖本体的两条长度边上的固定卡扣沿所述长方形防尘盖本体宽度方向的距离等于所述PCIE卡槽的宽度。

优选地,所述防潮垫片为非金属麦拉Mylar材质。

优选地,所述防尘盖本体的材质与所述PCIE卡槽的本体的材质相同。

本发明实施例还提供了上述任一PCIE卡槽防尘盖的使用方法,包括:

将所述防尘盖本体置于所述PCIE卡槽上,其中所述第一通孔与所述PCIE卡槽的插入口对齐;

通过所述固定卡扣固定所述防尘盖本体的位置;

通过所述第一通孔,将所述PCIE卡的金手指插在所述PCIE卡槽的插入口;

通过所述PCIE卡槽上的卡子对所述PCIE卡进行固定。

优选地,在所述将所述防尘盖本体置于所述PCIE卡槽上之前,进一步包括:

将所述防潮垫片置于所述PCIE卡槽上,其中所述第二通孔与所述PCIE卡槽的插入口对齐。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浪潮电子信息产业股份有限公司,未经浪潮电子信息产业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510526064.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top