[发明专利]无机偏光板及其制造方法

权利要求书

1.一种无机偏光板，包括：

基底，所述基底对供使用的波长范围内的光是透明的；

多个线性金属层；

多个线性介质层；以及

多个线性光吸收层，所述多个线性光吸收层具有吸收光的功能，其中，以所述基底、所述线性金属层、所述线性介质层，所述线性光吸收层的顺序依次设置各层，

其中，所述多个线性金属层在所述基底上以比所述光的波长短的间距相互隔开地对齐，

其中，所述多个线性介质层中的每个线性介质层设置在所述多个线性金属层中的每个线性金属层上，

其中，所述多个线性光吸收层中的每个线性光吸收层设置在所述多个线性介质层中的每个线性介质层上，以及

其中，在与所述线性金属层的纵向方向正交的方向上切割所述线性金属层得到的横截面的形状为下底在所述基底的一侧以及上底在所述线性介质层的一侧的梯形，在所述梯形中，所述下底的长度长于所述上底的长度，其中，在所述线性金属层的所述横截面形状中，所述下底的长度与所述上底的长度之间的差值，即(所述下底的长度)-(所述上底的长度)，为1.0nm至12.0nm，

其中，所述线性金属层的材料为铝，

其中，所述线性介质层的材料为SiO₂，并且

所述线性光吸收层的材料为Si或硅化物。

2.根据权利要求1所述的无机偏光板，其中，所述线性金属层的平均厚度为20nm至400nm。

3.根据权利要求1所述的无机偏光板，其中，所述硅化物为含Fe量为10atm％或小于10atm％的硅化物。

4.根据权利要求1所述的无机偏光板，其中，所述硅化物为含Ta量为40atm％或小于40atm％的硅化物。

5.根据权利要求1所述的无机偏光板，其中，所述基底的材料为玻璃、水晶或蓝宝石。

6.一种根据权利要求1至权利要求5中任意一项所述的无机偏光板的制造方法，包括：使用含有N₂的蚀刻气体来蚀刻形成在所述基底上的金属层。

7.根据权利要求6所述的制造方法，其中，所述蚀刻气体包含Cl₂和BCl₃。