[发明专利]一种超疏液薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510513977.8 申请日: 2015-08-20
公开(公告)号: CN105197879A 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 吴天准;王智伟;王磊;袁丽芳 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B1/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 姚亮
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 超疏液 薄膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种超疏液薄膜的制备方法,其包括以下步骤:

(1)对具有T型微纳结构的原始模板进行疏水处理并浇筑第一弹性可固化材料,在固化之后,将所述第一弹性可固化材料脱模,得到表面具有T型微纳米结构的中间体;

(2)利用软复制工艺将所述中间体表面的T型微纳米结构转印到第二可固化材料上,将第二可固化材料从中间体剥离后得到表面具有T型微纳米结构的结构体;

(3)对所述结构体具有T型微纳米结构的一侧表面进行疏水处理,形成疏水单分子涂层,完成超疏液薄膜的制备。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其中,在步骤(1)中,所述疏水处理包括以下方式:

使用化学气相沉积工艺处理加热原始模板上的T型微纳米结构的表面,在T型微纳米结构的各个方向使用等离子状态下的碳氟化合物气源进行沉积,在T型微纳米结构的表面生成具有疏水性的碳氟化合物涂层;

或者,使用单分子自组装工艺在原始模板的T型微纳米结构的表面进行化学反应,在T型微纳米结构的表面生成具有疏水性的碳氟化合物涂层;

优选地,所述具有T型微纳结构的原始模板包括通过干法刻蚀得到的模板;

优选地,所述碳氟化合物包括三甲基氯硅烷、六甲基二硅胺和全氟癸基三氯硅烷中的一种或几种的组合。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其中,在步骤(1)中,浇筑第一弹性可固化材料包括:

将液相的第一弹性可固化材料灌注到经过疏水处理的原始模板的T型微纳结构之中,并抽真空,使液相的第一弹性可固化材料覆盖原始模板的表面并且无气泡;

固化所述第一弹性可固化材料;

在固化之后,将所述第一弹性可固化材料从原始模板上脱模,得到表面具有与原始模板表面的T型结构互补的T型微纳米结构的中间体。

4.根据权利要求1或3所述的制备方法,其中,所述第一弹性可固化材料包括聚二甲基硅氧烷、三元乙丙橡胶、丁腈橡胶、顺丁胶和氯丁胶中的一种或几种的组合。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其中,在步骤(2)中,所述转印包括:

将液相的第二可固化材料旋涂到所述中间体表面的T型微纳米结构上并完全充满空隙;

固化所述液相的第二可固化材料;

完全固化后,将所述液相的第二可固化材料从所述中间体上脱模,得到表面具有T型微纳米结构的结构体。

6.根据权利要求1或5所述的制备方法,其中,所述第二可固化材料包括EVA乳液、纸浆、丙烯酸乳液中的一种或几种的组合。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其中,在步骤(3)中,所述疏水处理包括以下方式:

使用化学气相沉积工艺处理加热所述结构体具有T型微纳米结构的一侧表面,在T型微纳米结构的各个方向使用等离子状态下的碳氟化合物气源进行沉积,在T型微纳米结构的表面生成具有疏水性的碳氟化合物涂层;

或者,使用单分子自组装工艺在所述结构体具有T型微纳米结构的一侧表面进行化学反应,在T型微纳米结构的表面生成具有疏水性的碳氟化合物涂层;

优选地,所述碳氟化合物包括三甲基氯硅烷、六甲基二硅胺和全氟癸基三氯硅烷中的一种或几种的组合。

8.一种超疏液薄膜,其是通过权利要求1-7任一项所述的方法制备的,其中,该超疏液薄膜包括由第二可固化材料构成的基底以及设置在所述基底上的多个T型微纳米结构,所述T型微纳米结构包括柱体和设置在柱体顶部的盖体,所述柱体在竖直方向上的投影落入所述盖体在竖直方向上的投影范围内。

9.根据权利要求8所述的超疏液薄膜,其中,所述基底的厚度为60微米到3毫米,所述柱体的尺寸范围为:直径、长度和/或宽度为500纳米到30微米,高度为600纳米到30微米,所述盖体的尺寸范围为:直径为600纳米到50微米,高度为300纳米到20微米;

优选地,所述柱体为圆柱体、长方体、正方体、圆台或棱台,所述盖体为圆形、方形或多边形。

10.一种超疏液贴膜,其中,该超疏液贴膜是由权利要求8或9所述的超疏液薄膜制备的。

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