[发明专利]一种用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法在审

专利信息
申请号: 201510513097.0 申请日: 2015-08-20
公开(公告)号: CN105097553A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 杨育鑫;张志榜;陈发祥;李泓纬;杨净斐 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L21/324;H01L29/26
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 软性 显示器 薄膜晶体管 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,该软性显示器包括一基板、位于基板上的一绝缘层以及位于绝缘层上方的一缓冲层,其特征在于,该制造方法包括以下步骤:

形成一第一金属氧化层于所述缓冲层的上方;

对所述第一金属氧化层进行高温热退火处理,使所述第一金属氧化层吸收所述缓冲层中的大量氢原子;

移除已吸收所述氢原子的所述第一金属氧化层;以及

形成一薄膜晶体管于所述缓冲层的上方。

2.根据权利要求1所述的用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,上述形成所述薄膜晶体管的步骤还包括:

形成一第二金属氧化层于所述缓冲层的上方;

形成一栅极绝缘层于所述第二金属氧化层的上方;

形成一栅电极于所述栅极绝缘层的上方;

形成一层间介电层以覆盖所述第二金属氧化层与所述栅电极;以及

形成一源电极和一漏电极,所述源电极和所述漏电极经由过孔与所述第二金属氧化层相接触。

3.根据权利要求1所述的用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,上述移除步骤之后,所述制造方法还包括:

采用傅氏转换红外光谱分析仪检测所述缓冲层中的氢原子含量。

4.根据权利要求1所述的用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述缓冲层的材质为氧化硅或氮化硅。

5.根据权利要求1所述的用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述第一金属氧化层的材质为铟镓锌氧化物。

6.一种用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,该软性显示器包括一基板、位于基板上的一绝缘层以及位于绝缘层上方的一第一缓冲层,其特征在于,该制造方法包括以下步骤:

形成一第一金属氧化层于所述第一缓冲层的上方,所述第一金属氧化层具有高含量的氧原子;

形成一第二缓冲层于所述第一金属氧化层的上方;

对所述第一金属氧化层进行高温热退火处理,使所述第一金属氧化层吸收所述缓冲层中的大量氢原子;以及

形成一薄膜晶体管于所述第二缓冲层的上方。

7.根据权利要求6所述的用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,上述形成所述薄膜晶体管的步骤还包括:

形成一第二金属氧化层于所述第二缓冲层的上方;

形成一栅极绝缘层于所述第二金属氧化层的上方;

形成一栅电极于所述栅极绝缘层的上方;

形成一层间介电层以覆盖所述第二金属氧化层与所述栅电极;以及

形成一源电极和一漏电极,所述源电极和所述漏电极经由过孔与所述第二金属氧化层相接触。

8.根据权利要求6所述的用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述第一缓冲层为氮化硅材质,所述第二缓冲层为氧化硅材质。

9.一种用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,该软性显示器包括一基板、位于基板上的一绝缘层以及位于绝缘层上方的一缓冲层,其特征在于,该制造方法包括以下步骤:

形成一第一金属氧化层于所述缓冲层的上方,所述第一金属氧化层具有高含量的氧原子;

形成一第二金属氧化层于所述第一金属氧化层的上方;

对所述第一金属氧化层进行高温热退火处理,使所述第一金属氧化层吸收所述缓冲层中的大量氢原子;以及

形成一薄膜晶体管于所述第二金属氧化层的上方。

10.根据权利要求9所述的用于软性显示器的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述第一金属氧化层的电阻值高于所述第二金属氧化层的电阻值。

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