[发明专利]电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法

权利要求书

1.一种粒子光学排布结构，所述粒子光学排布结构包括：

至少一个带电粒子源，其被配置为生成一束带电粒子；

至少一块多孔板，其具有形成在所述多孔板中的多个孔，其中，所述排布结构被配置为使得在所述多孔板的下游从所述一束带电粒子形成多个带电粒子分束，并且使得所述多个带电粒子分束中的每一个在所述多孔板的聚焦区中具有焦点；以及

物镜，其用于将所述多孔板的聚焦区成像到能够定位在所述粒子光学排布结构的物面中的物体上；

其特征在于：场透镜，其被配置为生成聚焦场，并且被布置为使得所述场透镜的所述聚焦场的位置与形成所述带电粒子分束的焦点的聚焦区相重合。

2.根据权利要求1所述的粒子光学排布结构，其中，所述场透镜的使得所述场透镜的聚焦效果的位置与形成所述带电粒子分束的焦点的所述聚焦区相重合的布置具有减小所述场透镜的透镜误差的效果的功能。

3.根据权利要求1所述的粒子光学排布结构，其中，所述场透镜的使得所述场透镜的聚焦效果的位置与形成所述带电粒子分束的焦点的所述聚焦区相重合的布置具有减小所述场透镜的色误差的效果的功能。

4.根据权利要求1所述的粒子光学排布结构，其中，所述多个孔中的至少一组的孔的形状是椭圆形状。

5.根据权利要求4所述的粒子光学排布结构，其中，所述粒子光学排布结构还包括至少一个聚焦透镜，所述至少一个聚焦透镜用于操纵所述至少一束带电粒子和所述多个带电粒子分束中的至少一个；其中，所述多个孔中的所述至少一组的形状是椭圆形状，以补偿至少一个聚焦透镜的像散或所述场透镜的像散。

6.根据权利要求4或5所述的粒子光学排布结构，其中，所述孔的椭圆形状的椭圆度根据所述孔距图案的中心的距离而增大，在所述图案中布置所述多孔板的所述孔；和/或

其中，所述孔的椭圆形状的长轴相对于所述图案的中心沿径向取向；和/或

其中，所述孔的椭圆形状的长轴按相对于源自所述图案的中心的径向成大于10°的角度来取向，其中，所述角度根据各孔距所述图案的中心的距离而增大。

7.根据权利要求1所述的粒子光学排布结构，其中，所述物镜被配置为在所述物面中形成多个束斑；

其中，所述多个孔按预定的第一阵列图案形成；

其中，所述多个束斑按第二阵列图案布置；以及

其中，所述第一阵列图案在第一方向上具有至少一个第一图案规则度，所述第二阵列图案在与所述第一方向电子光学地对应的第二方向上具有至少一个第二图案规则度，并且其中，所述第二图案规则度高于所述第一图案规则度。

8.根据权利要求1所述的粒子光学排布结构，其中，所述多孔板中的所述孔的直径随着距布置了所述多孔板的所述孔的图案的中心的距离增大而变化。

9.根据权利要求8所述的粒子光学排布结构，其中，所述粒子光学排布结构包括至少一个粒子光学元件，所述至少一个粒子光学元件用于操纵所述至少一束带电粒子和所述多个带电粒子分束中的至少一个；其中，所述孔板中的孔的直径随着距所述图案的中心的距离增大而增大或减小，以补偿所述至少一个粒子光学元件的场曲。

10.根据权利要求8所述的粒子光学排布结构，其中，所述孔板中的孔的直径随着距所述图案的中心的距离增大而增大，以补偿所述至少一束带电粒子在其截面上的不均匀电流。

11.根据权利要求8所述的粒子光学排布结构，其中，所述孔板中的孔的直径随着距所述图案的中心的距离增大而增大。

12.一种多电子分束检验系统，所述多电子分束检验系统包括：

台，其用于安装待检验物体；

至少一个电子源，其用于生成至少一个电子束；

根据权利要求1至11中的一个所述的粒子光学排布结构；

物镜，其用于将所述多孔板的聚焦区成像到所述物体上；以及

检测器排布结构，其用于检测来自所述物体的由电子分束阵列生成的二次电子，以产生与由所述电子分束阵列中的单个电子分束生成的所述二次电子相对应的信号的阵列。