[发明专利]LOW-E玻璃用蚀刻液及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201510502242.5 | 申请日： | 2015-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN105198228A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 薛辉;昌江;任俊春;金海涛 | 申请（专利权）人： | 芜湖真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 241000 安徽省芜*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | low 玻璃 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种LOW-E玻璃用蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液包括水、草酸、氢化铵、硫酸钠、硫酸铵、硝酸、硝酸钠和硝酸镁；其中，
相对于100重量份的所述水，所述草酸的含量为30-60重量份，所述氢化铵的含量为20-50重量份，所述硫酸钠的含量为1-10重量份，所述硫酸铵的含量为3-20重量份，所述硝酸的含量为5-30重量份，所述硝酸钠的含量为5-20重量份，所述硝酸镁的含量为1-5重量份。
2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其中，相对于100重量份的所述水，所述草酸的含量为40-50重量份，所述氢化铵的含量为30-40重量份，所述硫酸钠的含量为3-7重量份，所述硫酸铵的含量为10-15重量份，所述硝酸的含量为10-20重量份，所述硝酸钠的含量为10-15重量份，所述硝酸镁的含量为2-4重量份。
3.根据权利要求1或2所述的蚀刻液，其中，所述蚀刻液还包括二氧化硅。
4.根据权利要求3所述的蚀刻液，其中，相对于100重量份的所述水，所述二氧化硅的含量为10-20重量份。
5.一种LOW-E玻璃用蚀刻液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将水、草酸、氢化铵、硫酸钠、硫酸铵、硝酸、硝酸钠和硝酸镁混合后制得蚀刻液；其中，
相对于100重量份的所述水，所述草酸的用量为30-60重量份，所述氢化铵的用量为20-50重量份，所述硫酸钠的用量为1-10重量份，所述硫酸铵的用量为3-20重量份，所述硝酸的用量为5-30重量份，所述硝酸钠的用量为5-20重量份，所述硝酸镁的用量为1-5重量份。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其中，相对于100重量份的所述水，所述草酸的用量为40-50重量份，所述氢化铵的用量为30-40重量份，所述硫酸钠的用量为3-7重量份，所述硫酸铵的用量为10-15重量份，所述硝酸的用量为10-20重量份，所述硝酸钠的用量为10-15重量份，所述硝酸镁的用量为2-4重量份。
7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其中，所述制备方法还包括加入二氧化硅进行混合。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其中，相对于100重量份的所述水，所述二氧化硅的用量为10-20重量份。
9.一种根据权利要求1-4任意一项所述的LOW-E玻璃用蚀刻液或根据权利要求5-8任意一项所述的制备方法制得的LOW-E玻璃用蚀刻液在生产中的应用。
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