[发明专利]一体水磨石地坪及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510497295.2 申请日: 2015-08-14
公开(公告)号: CN105178564A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 郑鸿芳;杨喜丽;陈宙飞 申请(专利权)人: 福州皇家地坪有限公司
主分类号: E04F15/12 分类号: E04F15/12;C04B28/00;C04B41/68
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350300 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一体 水磨石 地坪 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于建筑施工领域,具体涉及一体水磨石地坪及其制造方法。

背景技术

地坪是铺设于地面之上的材料,要求具有一定的强度和刚度,并具有保暖、耐磨的性能。混凝土已经成为当今应用量最大,且使用范围最广的建筑结构材料,据统计,我国2012年混凝土产量高达12-13亿m3,占世界总产量的40%左右。然而其普遍存在的易风化开裂、起砂、不耐磨等缺陷也是一直以来困扰人们的难题,并受到了普遍关注。虽然造成此现象的原因是多方面的,但实际上影响和降低了水磨石地坪的使用效果及寿命。

发明内容

本发明的目的在于提供一体水磨石地坪及其制造方法,解决了目前传统水墨地坪施工成本高,容易开裂起鼓等风险,使得水磨石使用寿命短。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一体水磨石地坪的制造方法,所述地坪为混凝土浇筑后3-5h,将雨花石骨料均匀抛洒在初凝的混凝土基础上,然后进行收光抹平。

所述方法具体步骤包括如下:

(1)将基层表面清理干净后,将基层素地打磨处理,使其平整、不空壳、无气泡;

(2)在基层表面涂覆隔离剂;

(3)将混凝土浇筑在基层上,随浇随抹平,同时振浆至混凝土泌水均匀;

(4)混凝土浇筑后3-5h,脚踩下陷4-5mm,当表面无泌水且成初凝状态后,将选好的雨花石骨料均匀抛洒在混凝土基础上,接着用抹光机进行收光抹平,等待水化完全;

(5)在地坪完成6-12h内用养护蜡进行养护,1星期之后再进行打磨抛光处理,使地面呈现镜面效果。

所述的混凝土包含以下原料:水泥、玻璃废渣、金刚砂、大理石粉、环氧树脂、水;各原料重量比为:35:80:75:50:10:17。

所述的隔离剂包含以下重量份计原料:黄栀子汁15-26份、硅油20-25份、滑石粉16-19份、乳化剂10-15份。

本发明的优点在于:传统的水磨石地坪是在混凝土浇筑完成后,养护期达到后再在其上面进行作业,施工形成水墨地坪,这样不仅增加了地坪施工成本,也使得混凝土变成二次浇筑成型,大大增加了混凝土开裂、起鼓的风险,最终造成水磨石使用寿命短,而本发明采用的施工方法简单,工程造价低,获得地坪不会开裂、起鼓,使用寿命比传统的地坪长2-3倍。

具体实施方式

实施例1

(1)将基层表面清理干净后,将基层素地打磨处理,使其平整、不空壳、无气泡;

(2)在基层表面涂覆隔离剂;

(3)将混凝土浇筑在基层上,随浇随抹平,同时振浆至混凝土泌水均匀;

(4)混凝土浇筑后4h,脚踩下陷4mm,当表面无泌水且成初凝状态后,将选好的雨花石骨料均匀抛洒在混凝土基础上,接着用抹光机进行收光抹平,等待水化完全;

(5)在地坪完成8h内用养护蜡进行养护,1星期之后再进行打磨抛光处理,使地面呈现镜面效果。

所述的混凝土包含以下原料:水泥、玻璃废渣、金刚砂、大理石粉、环氧树脂、水;各原料重量比为:35:80:75:50:10:17。

所述的隔离剂含有以下重量份计原料:黄栀子汁20份、硅油23份、滑石粉17份、乳化剂13份。

实施例2

(1)将基层表面清理干净后,将基层素地打磨处理,使其平整、不空壳、无气泡;

(2)在基层表面涂覆隔离剂;

(3)将混凝土浇筑在基层上,随浇随抹平,同时振浆至混凝土泌水均匀;

(4)混凝土浇筑后3h,脚踩下陷5mm,当表面无泌水且成初凝状态后,将选好的雨花石骨料均匀抛洒在混凝土基础上,接着用抹光机进行收光抹平,等待水化完全;

(5)在地坪完成6h内用养护蜡进行养护,1星期之后再进行打磨抛光处理,使地面呈现镜面效果。

所述的混凝土包含以下原料:水泥、玻璃废渣、金刚砂、大理石粉、环氧树脂、水;各原料重量比为:35:80:75:50:10:17。

所述的隔离剂包含以下重量份计原料:黄栀子汁15份、硅油20份、滑石粉16份、乳化剂10份。

实施例3

(1)将基层表面清理干净后,将基层素地打磨处理,使其平整、不空壳、无气泡;

(2)在基层表面涂覆隔离剂;

(3)将混凝土浇筑在基层上,随浇随抹平,同时振浆至混凝土泌水均匀;

(4)混凝土浇筑后5h,脚踩下陷5mm,当表面无泌水且成初凝状态后,将选好的雨花石骨料均匀抛洒在混凝土基础上,接着用抹光机进行收光抹平,等待水化完全;

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