[发明专利]压印装置、照明光学系统及物品制造方法有效

专利信息
申请号: 201510493985.0 申请日: 2015-08-12
公开(公告)号: CN105372932B 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 松本隆宏 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 11293 北京怡丰知识产权代理有限公司 代理人: 迟军<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 压印 装置 照明 光学系统 物品 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种压印装置,其通过使基板的压印材料与模具图案相互接触来进行在所述压印材料上形成图案的压印处理,所述压印装置包括:

加热单元,其被构造为对所述基板上进行压印处理的压印区域加热并且改变所述压印区域的形状,

其中,所述加热单元包括:

第一光学系统,其被构造为发射在与光轴垂直的第一方向和第二方向上扩展的光束;

改变单元,其被构造为改变从所述第一光学系统发射的光束在所述第一方向与所述第二方向上的宽度的比率;以及

强度分布调节单元,其被构造为调节所述比率已被改变的光束的强度分布,并且

其中,所述加热单元通过用来自所述强度分布调节单元的光束照射所述压印区域,来加热所述压印区域。

2.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述第一光学系统发射矩形光束,并且所述改变单元改变从所述第一光学系统发射的所述矩形光束的纵横比。

3.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述第一光学系统包括光源单元以及被构造为将从所述光源单元发射的光的强度分布均匀化的光学系统。

4.根据权利要求3所述的压印装置,其中,被构造为将光的强度分布均匀化的所述光学系统包括透镜阵列和傅里叶变换透镜,在所述透镜阵列中二维地排列多个透镜,并且

所述改变单元包括位于所述傅里叶变换透镜与所述强度分布调节单元之间的光路上的柱状透镜。

5.根据权利要求4所述的压印装置,其中,所述柱状透镜具有正光焦度,并且位于比所述傅里叶变换透镜的后焦点位置更接近所述光源单元的一侧上。

6.根据权利要求4所述的压印装置,其中,所述柱状透镜具有正光焦度,并且位于比所述傅里叶变换透镜的后焦点位置更接近所述强度分布调节单元的一侧上。

7.根据权利要求4所述的压印装置,其中所述柱状透镜具有负光焦度,并且位于比所述傅里叶变换透镜的后焦点位置更接近所述光源单元的一侧上。

8.根据权利要求4所述的压印装置,其中,所述改变单元包括被构造为沿光轴方向驱动所述柱状透镜的驱动器。

9.根据权利要求8所述的压印装置,所述压印装置还包括:

检测器,其被构造为检测在所述压印区域中形成的标记;以及

控制单元,其被构造为基于所述检测器的检测结果来获得所述压印区域的形状,并且基于获得的所述形状来控制所述驱动器的驱动量。

10.根据权利要求4所述的压印装置,其中,所述多个透镜在所述第一方向和所述第二方向上具有相同的焦距,并且在所述第一方向和所述第二方向上以相同的间距被排列。

11.根据权利要求3所述的压印装置,其中,所述光源单元包括光学元件和多个激光源,所述光学元件被构造为会聚来自所述多个激光源的光并将所述光引导至一个光纤。

12.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述强度分布调节单元包括液晶器件以及数字反射镜器件中的一者,所述液晶器件包括多个液晶元件并被构造为通过控制针对所述多个液晶元件的电压来调节所述强度分布,所述数字反射镜器件包括多个反射镜元件并且被构造为通过控制所述多个反射镜元件的平面方向来调节所述强度分布。

13.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述加热单元包括投影光学系统,所述投影光学系统被构造为在所述压印区域上投射强度分布已被所述强度分布调节单元调节的光束。

14.根据权利要求1所述的压印装置,所述压印装置还包括:

模具校正单元,其被构造为通过对所述模具施加力来校正所述模具的形状。

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