[发明专利]显示基板及其制作方法、显示器件

权利要求书

1.一种显示基板，包括显示区域和位于显示区域周边的非显示区域，其特征在于，所述非显示区域包括设置在基底上的遮光图形，使得整个所述非显示区域不透光。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述非显示区域还包括设置在所述基底上的多条遮光走线，用于为显示区域提供显示所需的信号；在对应于相邻两个遮光走线之间所在的区域设置有所述遮光图形。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述遮光走线包括相邻的第一遮光走线和第二遮光走线，在对应于所述第一遮光走线和第二遮光走线之间所在的区域设置有所述遮光图形，所述遮光图形与所述第一遮光走线、第二遮光走线在所述基底上的投影仅部分交叠，形成第一区域。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一区域为条状结构，每一条状结构的宽度为1.5um-4um。

5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为薄膜晶体管阵列基板，所述遮光走线包括栅扫描线和数据驱动线，在对应于所述栅扫描线之间所在的区域设置有所述遮光图形，和/或，在对应于所述数据驱动线之间所在的区域设置有所述遮光图形。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述栅扫描线和数据驱动线位于所述阵列基板的相邻两侧边；

当仅对应于相邻两个所述栅扫描线之间所在的区域设置有所述遮光图形时，所述遮光图形与数据驱动线为同层同材料设置。

7.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述栅扫描线和数据驱动线位于所述阵列基板的相邻两侧边；

当仅对应于相邻两个所述数据驱动线之间所在的区域设置有所述遮光图形时，所述遮光图形与栅扫描线为同层同材料设置。

8.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述栅扫描线和数据驱动线位于所述阵列基板的相邻两侧边；

当对应于相邻两个所述栅扫描线之间所在的区域和对应于相邻两个所述数据驱动线之间所在的区域均设置有所述遮光图形时，对应于所述栅扫描线之间所在的区域设置的遮光图形与数据驱动线为同层同材料设置，对应于所述数据驱动线之间所在的区域设置的遮光图形与栅扫描线为同层同材料设置。

9.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光图形覆盖所述显示基板的整个非显示区域。

10.一种显示基板的制作方法，所述显示基板包括显示区域和位于显示区域周边的非显示区域，其特征在于，所述制作方法包括：

在基底上形成位于非显示区域的遮光图形，使得整个所述非显示区域不透光。

11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

在基底上形成位于非显示区域的多条遮光走线，用于为显示区域提供显示所需的信号；

在基底上形成位于非显示区域的遮光图形的步骤具体为：

在对应于相邻两个所述遮光走线之间所在的区域形成所述遮光图形。

12.根据权利要求11所述的制作方法，其特征在于，所述显示基板为薄膜晶体管阵列基板，所述遮光走线包括栅扫描线和数据驱动线；

在基底上形成位于非显示区域的多条遮光走线的步骤包括：

在基底上形成位于非显示区域的栅扫描线和数据驱动线；

在基底上形成位于非显示区域的遮光图形的步骤具体为：

在对应于相邻两个所述栅扫描线之间所在的区域形成所述遮光图形，和/或，在对应于相邻两个所述数据驱动线之间所在的区域形成所述遮光图形。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述栅扫描线和数据驱动线位于所述阵列基板的相邻两侧边；

当仅对应于相邻两个所述栅扫描线之间所在的区域设置有所述遮光图形时，所述制作方法包括：

在所述基底上形成源漏金属层，对所述源漏金属层进行构图工艺，形成包括所述遮光图形与数据驱动线的图形。

14.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述栅扫描线和数据驱动线位于所述阵列基板的相邻两侧边；

当仅对应于相邻两个所述数据驱动线之间所在的区域设置有所述遮光图形时，所述制作方法包括：

在所述基底上形成栅金属层，对所述栅金属层进行构图工艺，形成包括所述遮光图形与栅扫描线的图形。