[发明专利]一种银纳米线的刻蚀液及刻蚀方法有效

专利信息
申请号: 201510472684.X 申请日: 2015-07-31
公开(公告)号: CN104962919B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 张梓晗;吕鹏;陶豹 申请(专利权)人: 合肥银派科技有限公司
主分类号: C23F1/30 分类号: C23F1/30
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司34101 代理人: 何梅生,卢敏
地址: 230088 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 刻蚀 方法
【权利要求书】:

1.一种银纳米线的刻蚀液,其特征在于:所述刻蚀液的PH值为1~5之间,所述刻蚀液包含以下质量份的各原料:

其中所用硝酸的质量分数为65%,所用氨水的质量分数为25%~28%;

所述保护剂为N-乙烯基酰胺类聚合物、乙二醇、丙二醇、丙三醇、戊二醇或丁二醇中的至少一种;

所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、四丁基氯化铵、二苯胺磺酸钠或吐温3。

2.根据权利要求1所述的银纳米线的刻蚀液,其特征在于:构成所述刻蚀液的原料还包括无机盐0.1~5份。

3.根据权利要求2所述的银纳米线的刻蚀液,其特征在于:所述无机盐为氯化铁。

4.根据权利要求1所述的银纳米线的刻蚀液,其特征在于:所述N-乙烯基酰胺类聚合物为N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基乙酰胺或聚维酮。

5.一种银纳米线的刻蚀方法,其特征在于:将银纳米线浸泡在权利要求1~4任意一项所述的刻蚀液中,以25~80℃的温度刻蚀至直径或长径比满足所需。

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