[发明专利]半导体器件、布局设计和用于制造半导体器件的方法有效
| 申请号: | 201510464852.0 | 申请日: | 2015-07-31 | 
| 公开(公告)号: | CN105895617B | 公开(公告)日: | 2018-09-28 | 
| 发明(设计)人: | 林建宏;张新君;陈秀帆;邱垂青;李永辉 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 
| 主分类号: | H01L23/538 | 分类号: | H01L23/538;H01L21/768;G06F17/50 | 
| 代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 | 
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体器件 布局 设计 用于 制造 方法 | ||
【说明书】:
                
            
                    下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
                
                
            该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510464852.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多晶硅电阻及其制作方法
 - 下一篇:具有可湿性侧面的无引线方形扁平半导体封装
 





