[发明专利]虚点版纹防伪技术在审
申请号: | 201510463750.7 | 申请日: | 2015-08-02 |
公开(公告)号: | CN105096735A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 张国柱 | 申请(专利权)人: | 天津三一防伪科技股份有限公司 |
主分类号: | G09F3/02 | 分类号: | G09F3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300000 天津市滨海新区天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 虚点 防伪 技术 | ||
1.一种虚点版纹防伪技术,是优选的色素的点组成的复杂的类似的版纹图案,其特征在于:版纹图案由胶印印刷而成的,可在放大镜下观察每一个版纹线条,都是由胶印机的多个单色的点状物组成的版纹图案。
2.根据权利要求1所述的虚点版纹防伪技术,其特征在于,用于虚点版纹的图案设计的色素是CMYK四色的2`3个基本色;其中黑色或黑色系专色的占比不超过50%;与之匹配的是其它的色素,网点比例应该大于60%,或多种其它色的组合或加和的网点比例大于60%。
3.根据权利要求1所述的虚点版纹防伪技术,其特征在于,用于虚点版纹的图案设计的色素是2`6色专色;其中黑色或黑色系专色的占比不超过50%;与之匹配的是其它的色素,比例应该大于60%,或组合大于60%的网点比例。
4.根据权利要求1所述的虚点版纹防伪技术,其特征在于,用于虚点版纹的图案设计是非常复杂的。
5.根据权利要求1所述的虚点版纹防伪技术,其特征在于,用于虚点版纹的图案设计元素,是构成版纹图案的是文字或符号,其大小、坐标、旋转角度及其内容,版纹图案都可以不一样;可以千变万化的防伪模块组合和版纹组合构成防伪图案。
6.根据权利要求1所述的虚点版纹防伪技术,其特征在于,用于虚点版纹的图案设计的版纹防伪设计元素,是个性化底纹、防扫描/复印设计、纽索饰花球、线条浮雕图文、缩微文字、潜影技术、暗记技术、蒙版技术、劈线技术、扰视图文技术。
7.根据权利要求1所述的虚点版纹防伪技术,其特征在于,用于虚点版纹的图案设计的版纹防伪设计元素,可以与实版纹防伪技术配合使用。
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