[发明专利]来自片段着色程序的采样掩膜的控制

权利要求书

1.一种方法，包括：

对至少部分被图元覆盖的每个像素生成片段；

对与所述图元相对应的每个片段确定覆盖信息；并且对每个片段：

由片段着色器生成采样掩膜，

用所述采样掩膜替换所述片段的所述覆盖信息，并且基于所述采样掩膜将所述片段着色器生成的结果写入存储器。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述片段包括数据结构，其包括一个或多个插值属性以及关于与特定像素相关联的多个采样的覆盖信息。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述图元包括数据结构，其包括顶点的合集，其中所述顶点的合集中的每个顶点包括三维空间中的坐标以及一个或多个顶点属性。

4.根据权利要求1所述的方法，其中生成片段以及确定覆盖信息在图形处理管线的光栅化阶段期间执行。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述图形处理管线至少部分由并行处理单元实现，所述并行处理单元包括多个可编程流式多处理器(SM)，每个SM配置为并行执行多个片段着色器线程。

6.根据权利要求5所述的方法，其中每个片段着色器线程与在所述图形处理管线的所述光栅化阶段期间生成的不同片段相对应。

7.根据权利要求5所述的方法，其中生成所述采样掩膜在所述图形处理管线的片段着色阶段期间执行，并且其中用所述采样掩膜替换所述覆盖信息在所述图形处理管线的光栅操作阶段期间执行。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述并行处理单元包括光栅引擎，其配置为至少部分实现所述图形处理管线的所述光栅化阶段，以及光栅操作单元，其配置为至少部分实现所述图形处理管线的所述光栅操作阶段。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述结果被写入多采样颜色缓冲器。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述覆盖信息包括N比特掩膜，所述N比特掩膜中的每个比特与不同的采样位置相对应，所述采样位置与对应于所述片段的像素相关联。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述采样掩膜包括N个比特，所述采样掩膜的每个比特与不同的采样位置相对应。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述片段着色器接收所述覆盖信息。

13.一种存储指令的非短暂计算机可读存储介质，当所述指令由处理器执行时，使得所述处理器执行的步骤包括：

对至少部分被图元覆盖的每个像素生成片段；

对与所述图元相对应的每个片段确定覆盖信息；并且对每个片段：

由片段着色器生成采样掩膜，

用所述采样掩膜替换所述片段的所述覆盖信息，并且基于所述采样掩膜将所述片段着色器生成的结果写入存储器。

14.根据权利要求13所述的非短暂计算机可读存储介质，其中所述片段包括数据结构，其包括一个或多个插值属性以及关于与特定像素相关联的多个采样的覆盖信息，以及其中所述图元包括数据结构，其包括顶点的合集，其中所述顶点的合集中的每个顶点包括三维空间中的坐标以及一个或多个顶点属性。

15.根据权利要求13所述的非短暂计算机可读存储介质，其中所述处理器包括并行处理单元，所述并行处理单元包括多个可编程流式多处理器(SM)，每个SM配置为并行执行多个片段着色器线程，以及其中生成片段和确定覆盖信息在图形处理管线的光栅化阶段期间执行，所述图形处理管线至少部分由所述并行处理单元实现。

16.根据权利要求13所述的非短暂计算机可读存储介质，其中所述覆盖信息包括N比特掩膜，所述N比特掩膜中的每个比特与不同的采样位置相对应，所述采样位置与对应于所述片段的像素相关联，以及其中所述采样掩膜包括N个比特，所述采样掩膜的每个比特与不同的采样位置相对应。