[发明专利]单片式湿法清洗方法

权利要求书

1.一种单片式湿法清洗方法，采用的单片式湿法清洗设备具有用于带动晶圆旋转的旋转平台，用于向所述晶圆上喷淋液体的喷淋头，以及与所述喷淋头连接的用于移动所述喷淋头的机械手臂，其特征在于，所述单片式湿法清洗方法包括：

步骤01：将整个所述晶圆固定置于所述旋转平台上，并且使所述晶圆的中心偏离旋转平台的中心；

步骤02：所述旋转平台和所述晶圆均以所述旋转平台的中心为旋转中心且以第一转速进行旋转；

步骤03：进行药液喷淋过程，其中，所述机械手臂摆动，并且带动所述喷淋头摆动，使所述喷淋头以所述旋转平台的中心为摆动中心进行摆动，使药液喷淋到所述晶圆的整个上表面；

步骤04：提高所述旋转平台的转速到第二转速，停止药液喷淋过程，然后，进行去离子水喷淋过程，其中，所述机械手臂将所述喷淋头置于所述晶圆中心上方，使所述喷淋头以所述晶圆的中心为定点，在晶圆和旋转平台以第二转速进行旋转过程中，对晶圆进行去离子水的定点喷淋；

步骤05：完成所述去离子水喷淋过程之后，调整所述旋转平台的转速到第三转速，对所述晶圆进行干燥过程；

步骤06：将所述晶圆取出所述旋转平台。

2.根据权利要求1所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述旋转平台的半径大于所述晶圆的半径。

3.根据权利要求1所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述步骤02中，所述第一转速为小于300rpm。

4.根据权利要求1所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述步骤03中，所述喷淋头以所述旋转平台的中心为摆动中心进行摆动的轨迹的对称轴穿过所述摆动中心，所述喷淋头以所述旋转平台的中心为摆动中心进行摆动的轨迹的末端到所述对称轴的垂直距离不超过所述晶圆半径的2/3。

5.根据权利要求1所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述步骤04中，所述去离子水的流量大于700ml/min。

6.根据权利要求1所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述步骤04中，所述第二转速为200-1000r/min。

7.根据权利要求1所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述步骤05中，所述干燥过程所采用的时间不少于1min。

8.根据权利要求1所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述步骤05中，所述第三转速为1000-2000r/min。

9.根据权利要求1-8任意一项所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述机械手臂为两个，每个所述机械手臂连接有一个喷嘴，分别用于所述药液喷淋过程和所述去离子水喷淋过程，并且，在所述药液喷淋过程完成后，用于所述药液喷淋过程的机械手臂撤回，然后，用于所述去离子水喷淋过程的机械手臂移动到所述晶圆上方；在所述步骤05中，在完成所述去离子水喷淋过程之后，且调整所述旋转平台的转速到第三转速之前，将所述去离子水喷淋过程的机械手臂撤回。

10.根据权利要求1-8任意一项所述的单片式湿法清洗方法，其特征在于，所述机械手臂为一个，在所述机械手臂端部具有两个喷嘴，每个喷嘴上设置有阀门，在所述药液喷淋过程和所述去离子水喷淋过程中通过阀门的启闭来控制相应喷嘴的启闭，从而实现所述药液喷淋过程和所述去离子水喷淋过程之间的切换。