[发明专利]具有可移动屏蔽件的涂布室

权利要求书

1.一种涂布室，包括

涂布源，

传输装置，其用于将适合于能够承载要被涂布的衬底的衬底支架相对于所述涂布源移动到至少一个涂布位置中，使得所述衬底可被涂布，以及

至少一个第一屏蔽件，其设置在所述衬底的涂布位置与所述涂布源之间的区域中，以防止除了要被涂布的所述衬底的表面之外的区域受到涂布，其中所述至少一个第一屏蔽件包含移动设备以及连接装置，所述移动设备具有支撑辊(17)且所述连接装置用于将所述至少一个第一屏蔽件与所述衬底支架相连接，

可旋转轴(14)，所述可旋转轴(14)的纵轴垂直于所述涂布源的长度方向，其中所述传输装置(5)的下支撑辊(15,16)被设置在所述可旋转轴(14)上且通过所述可旋转轴(14)而旋转，从而在垂直于所述长度方向以及所述纵轴两者的方向上移动所述衬底支架，

其中所述支撑辊(17)以防扭转的方式被设置在所述可旋转轴(14)上且可沿着所述纵轴滑动，使得所述可旋转轴(14)可沿着所述纵轴移动

其中，

当所述至少一个第一屏蔽件和所述衬底支架被连接时，所述至少一个第一屏蔽件和所述衬底支架可一同垂直于所述纵轴而移动且当所述至少一个第一屏蔽件和所述衬底支架未被连接时，所述至少一个第一屏蔽件与所述衬底支架可沿着所述纵轴而彼此独立地移动。

2.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述涂布室是真空室。

3.根据权利要求1或2所述的涂布室，

其中，所述涂布源是从包括CVD源、PECVD源、PVD源、溅射源和气相沉积源的组中选择的。

4.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述涂布源限定了沉积速率高于预定值的涂布区域，所述涂布区域至少在一个维度上小于要被涂布的所述衬底表面。

5.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述涂布源包括分布在所述涂布源上方的一个或多个处理工具。

6.根据权利要求5所述的涂布室，

其中，所述处理工具是从包括电极、磁控管电极、喷头电极、可旋转电极、双电极、微波源、加热器、溅射靶、气体入口、蒸发源的组中选择的。

7.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述传输装置适合于将所述衬底支架和要被涂布的所述衬底一同相对于所述涂布源设置在数个涂布位置。

8.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述传输装置适合于使得所述衬底支架和所述衬底一同相对于所述涂布源摆动。

9.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述传输装置的传输方向与所述涂布源的长度方向横交。

10.根据权利要求4所述的涂布室，

其中，所述传输装置的传输方向与所述涂布区域小于要被涂布的所述衬底表面的方向平行。

11.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述传输装置包括驱动器和/或引导装置。

12.根据权利要求11所述的涂布室，

其中，所述传输装置适合于直立传输板状衬底和/或所述引导装置包括限定了传输路径的支撑件以及相对的引导轨。

13.根据权利要求11或12所述的涂布室，

其中，所述传输装置包括用于支撑和/或驱动所述衬底支架的辊。

14.根据权利要求11或12所述的涂布室，

其中，所述引导装置包括无接触引导件或磁性引导件。

15.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，所述传输装置包括限定了被设置为彼此平行的数个传输路径的数个引导装置。

16.根据权利要求1所述的涂布室，

其中，用于所述第一屏蔽件的所述移动设备包括至少一个驱动器和/或至少一个引导设备。

17.根据权利要求16所述的涂布室，

其中，所述移动设备适合于移动环状屏蔽件和/或引导设备包括限定屏蔽件传输路径的屏蔽件支撑件以及相对的屏蔽件引导轨。

18.根据权利要求16或17所述的涂布室，

其中，所述移动设备包括用于支撑和/或驱动所述屏蔽件的辊。