[发明专利]二维磁场探针台测量系统有效

专利信息
申请号: 201510442179.0 申请日: 2015-07-24
公开(公告)号: CN104950269B 公开(公告)日: 2017-12-19
发明(设计)人: 冯正;刘清锋;岑冀娜;苏娟;谭为;成彬彬;吕立明;邓贤进;张健 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院电子工程研究所
主分类号: G01R33/12 分类号: G01R33/12
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙)51211 代理人: 蒋斯琪
地址: 621900 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二维 磁场 探针 测量 系统
【说明书】:

技术领域

发明属于物理及半导体测量技术领域,具体为一种二维磁场探针台测量系统。

背景技术

探针台在物理及半导体领域是一种应用广泛的非破坏性测试手段,可以对材料或器件的电学特性、光电特性、高频特性(射频、微波、毫米波、太赫兹波)等测量提供一个平台。磁场探针台可提供磁场并施加于材料或器件,研究它们在磁场下的相关特性,其典型应用包括磁学、自旋电子学、半导体物理与器件、量子器件等。

目前,磁场探针台被广泛应用,但它存在不足之处:现有的磁场探针台主要提供一个维度(方向)的磁场,不能满足研究材料或器件随磁场方向变化的特性等需求;并且它能够放置的探针座和探针较少,使得进行一些更为复杂的测量变得困难。

发明内容

本发明的目的在于提出一种二维磁场探针台测量系统,以解决现有磁场探针台不能改变磁场方向、可放置探针座和探针较少的问题,可有效改变磁场方向,根据需要设置探针座和探针的数量,可广泛应用于物理及半导体测量的各种场景。

本发明的技术方案如下:

二维磁场探针台测量系统,其特征在于包括:

一个基座,用于承载和固定其它部件;

一个二维磁场电磁铁,用于产生二维磁场,固定于基座上;

一个载物台卡盘,用于放置待测的样品,位于二维磁场电磁铁磁极中央并固定于基座上;

一个中间开口的探针平台,用于承载和固定探针座,位于二维磁场电磁铁的上方,中间开口正对于载物台卡盘的上方;

多个匹配安装的探针座和探针,用于接触载物台卡盘上的样品;探针座和探针沿探针平台的中间开口均匀环绕分布;探针平台的中间开口设计使得可以放置更多的探针座和探针,从而实现二维磁场环境下更为复杂的直流及高频探针测量;

多个直流及高频仪器,通过线缆连接探针测量磁场环境下的样品;

一套显微测量装置,用于观测探针针尖和样品并进行操作。

所述二维磁场电磁铁为平卧的四极电磁铁,四极通过闭合的框架轭铁固定,两两相对并互相垂直,中间留有空隙;相对两极的线圈串联形成一对,四个线圈组成相互垂直的两对。利用一个励磁电源给其中一对线圈提供电流,获得一维磁场;利用第二个励磁电源给另一对线圈提供电流,获得与前述一维磁场垂直的另一维磁场;通过调节两个励磁电流的方向和大小,这二维磁场可合成平面内任意方向、任意大小(一定范围内)的磁场。计算机可控制二个励磁电源,从而实现对二维磁场的控制。四极结构可作变化使二维磁场整体向上平移。

样品通过真空吸附固定于载物台卡盘上,感受二维磁场;载物台卡盘可进行XYZ轴三维移动,通过加热或制冷满足变温需求。

所述探针平台通过若干过均匀设置的支柱固定于基座上。

当探针平台的表面光滑时,探针座为真空吸附型,通过真空吸附固定于探针平台上表面;当探针平台为光学面包板时,探针座上设置固定槽,通过螺丝配合固定槽将探针座固定于探针平台上。

所述探针座可进行XYZ轴调节,从而使探针通过开口接触载物台卡盘上的样品;所述探针可进行XYZ轴三维微调,针通过线缆连接相应的直流及高频仪器测量磁场环境下的样品。所述探针座和探针为直流、高频型,高频包含射频、微波、毫米波和太赫兹波频段。

所述直流及高频仪器包括电流源表、纳伏表、半导体参数分析仪、锁相放大器、高频信号源、高频频谱仪、高频矢量网络分析仪等。

所述显微测量装置通过探针平台边缘的立柱固定,显微测量装置的光学显微镜可三维移动,搭载CCD摄像机进行成像显示。

所述探针平台的边缘处设置有一垂直板,垂直板上安装有转接头阵列、空气开关阵列;转接头用于直流及低频线缆的转接,空气开关用于控制载物台卡盘、吸附型探针座的空气线路通断。

计算机通过数据控制线连接励磁电源、直流及高频仪器、显微测量装置等,通过编写的软件进行磁场大小和方向控制、仪器自动控制、数据采集和处理等,形成集成化智能化的二维磁场探针台测量系统。

本发明的有益效果如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院电子工程研究所,未经中国工程物理研究院电子工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510442179.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top