[发明专利]防污抗反射膜以及具有该防污抗反射膜的盖板和电子设备有效
申请号: | 201510439886.4 | 申请日: | 2015-07-24 |
公开(公告)号: | CN106707380B | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 洪文郎;马绍栋 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115;G02B1/18 |
代理公司: | 上海隆天律师事务所 31282 | 代理人: | 臧云霄;胡洁 |
地址: | 201500 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防污 反射 以及 具有 盖板 电子设备 | ||
1.一种防污抗反射膜,其包括抗反射膜和覆设于所述抗反射膜上的防污膜,其特征在于:所述抗反射膜具有六层膜结构,该六层膜以距离防污膜由远及近依次为:第一层SiNx层,第二层SiO2层,第三层SiNx层,第四层SiO2层,第五层SiNx和第六层SiO2层;
所述六层膜对应的折射率依次定义为:n1、n2、n3、n4、n5、n6;所述六层膜的光学膜厚依次定义为:d1、d2、d3、d4、d4、d5、d6;
其中,
2.0≤n1=n3=n5≤2.2;
1.4≤n2=n4=n6≤1.6;
15nm≤d1≤25nm;25nm≤d2≤35nm;40nm≤d3≤50nm;10nm≤d4≤15nm;30nm≤d5≤40nm;70nm≤d6≤80nm;
所述防污膜的折射率为1.3~1.4;光学膜厚为15nm~30nm;
当所述d6为一定值时,所述防污膜的光学膜厚的取值与其折射率成反比。
2.如权利要求1所述的防污抗反射膜,其特征在于:当所述防污膜的折射率为一定值时,所述防污膜的光学膜厚与所述d6成反比。
3.如权利要求1所述的防污抗反射膜,其特征在于:所述d5的取值与n5值成反比。
4.一种防污抗反射盖板,其包括基板和覆设于所述基板上的如权利要求1至3中任一项所述的防污抗反射膜,且所述第一层SiNx层与所述基板接触。
5.如权利要求4所述的防污抗反射盖板,其特征在于:所述基板为玻璃基板。
6.如权利要求5所述的防污抗反射盖板,其特征在于:所述玻璃基板的折射率为1.45~1.55。
7.一种电子设备,其包括触摸面板,所述触摸面板采用如权利要求4至6中任一项所述的防污抗反射盖板作为盖板。
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