[发明专利]防污抗反射膜以及具有该防污抗反射膜的盖板和电子设备有效

专利信息
申请号: 201510439886.4 申请日: 2015-07-24
公开(公告)号: CN106707380B 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 洪文郎;马绍栋 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;G02B1/18
代理公司: 上海隆天律师事务所 31282 代理人: 臧云霄;胡洁
地址: 201500 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 防污 反射 以及 具有 盖板 电子设备
【权利要求书】:

1.一种防污抗反射膜,其包括抗反射膜和覆设于所述抗反射膜上的防污膜,其特征在于:所述抗反射膜具有六层膜结构,该六层膜以距离防污膜由远及近依次为:第一层SiNx层,第二层SiO2层,第三层SiNx层,第四层SiO2层,第五层SiNx和第六层SiO2层;

所述六层膜对应的折射率依次定义为:n1、n2、n3、n4、n5、n6;所述六层膜的光学膜厚依次定义为:d1、d2、d3、d4、d4、d5、d6;

其中,

2.0≤n1=n3=n5≤2.2;

1.4≤n2=n4=n6≤1.6;

15nm≤d1≤25nm;25nm≤d2≤35nm;40nm≤d3≤50nm;10nm≤d4≤15nm;30nm≤d5≤40nm;70nm≤d6≤80nm;

所述防污膜的折射率为1.3~1.4;光学膜厚为15nm~30nm;

当所述d6为一定值时,所述防污膜的光学膜厚的取值与其折射率成反比。

2.如权利要求1所述的防污抗反射膜,其特征在于:当所述防污膜的折射率为一定值时,所述防污膜的光学膜厚与所述d6成反比。

3.如权利要求1所述的防污抗反射膜,其特征在于:所述d5的取值与n5值成反比。

4.一种防污抗反射盖板,其包括基板和覆设于所述基板上的如权利要求1至3中任一项所述的防污抗反射膜,且所述第一层SiNx层与所述基板接触。

5.如权利要求4所述的防污抗反射盖板,其特征在于:所述基板为玻璃基板。

6.如权利要求5所述的防污抗反射盖板,其特征在于:所述玻璃基板的折射率为1.45~1.55。

7.一种电子设备,其包括触摸面板,所述触摸面板采用如权利要求4至6中任一项所述的防污抗反射盖板作为盖板。

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